[实用新型]转子铁心、转子以及旋转电机有效

专利信息
申请号: 201220580894.2 申请日: 2012-11-06
公开(公告)号: CN202931057U 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 森下大辅;落合悠基 申请(专利权)人: 株式会社安川电机
主分类号: H02K1/27 分类号: H02K1/27
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林;王小东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 转子 铁心 以及 旋转 电机
【说明书】:

技术领域

本文所讨论的实施方式涉及转子铁心、转子以及旋转电机。

背景技术

永磁体旋转电机作为旋转电机(诸如电动机和发电机)是公知的。永磁体旋转电机包括定子和转子,在定子和转子之间限定有气隙,所述转子具有沿转子铁心的周向方向布置的多个永磁体,所述定子布置成面向转子的外周面。

这类旋转电机包括:表面永磁体(SPM)旋转电机,该SPM旋转电机具有相对于转子铁心的外周面布置的永磁体;以及内部永磁体(IPM)旋转电机,该IPM旋转电机具有嵌入在转子铁心内部的永磁体。IPM旋转电机具体地广泛使用在例如机床、电动车辆和机器人的领域中。

然而,现有技术的旋转电机在降低从永磁体之间泄漏的磁通方面存在进一步改进的余地。如本文所使用的,从永磁体之间泄漏的磁通是指从永磁体出来而流到另一个永磁体但不流经定子的磁通。

当发生这样的磁通泄漏时,有助于旋转电机的输出的有效磁通因磁通泄漏而降低,而导致旋转电机的输出降低。因此,优选地,降低旋转电机中磁通泄漏的发生。

实用新型的一个方面的目的在于提供一种能够降低永磁体的磁通泄漏的转子铁心、转子以及旋转电机。

实用新型内容

根据本实用新型一个方面的转子铁心具有多个磁体开口和空腔部。所述磁体开口沿周向方向彼此邻接(juxtaposition)。在所述磁体开口中插入有永磁体。所述空腔部均相对于夹设在这些磁体开口之中的如下两个磁体开口之间的区域形成,所述两个磁体开口供相互邻近并且相对于径向方向具有彼此相反的磁极方向的永磁体插入其中。

根据本实用新型的一个方面,能够降低永磁体的磁通泄漏。

根据本实用新型的第一方面,提供一种转子铁心,该转子铁心包括:多个磁体开口,这些磁体开口沿周向方向彼此邻接地形成,并且在这些磁体开口中插入有永磁体;以及空腔部,每个空腔部均相对于夹设在这些磁体开口之中的如下两个磁体开口之间的区域形成,所述两个磁体开口供相互邻近并且相对于径向方向具有彼此相反的磁极方向的永磁体插入其中。

根据本实用新型的第二方面,所述空腔部在其与所述两个磁体开口的内周侧的侧面之间形成平行通路,这些平行通路将所述两个磁体开口的最接近点作为起始点;并且每个通路的宽度均等于或小于每个所述磁体开口与所述转子铁心的外周之间的最小间隔。

根据本实用新型的第三方面,所述空腔部在其与所述两个磁体开口的内周侧的侧面之间形成用于产生磁饱和的平行通路,这些平行通路将所述两个磁体开口的最接近点作为起始点。

根据本实用新型的第四方面,所述区域由将所述两个磁体开口中的布置在外周侧的末端处的点相连的假想线、将所述两个磁体开口中的布置在旋转中心侧的末端处的点相连的假想线、以及所述两个磁体开口来限定。

根据本实用新型的第五方面,所述空腔部均形成在所述区域之中的在将所述两个磁体开口的彼此最靠近的点相连的假想线的旋转中心侧形成的那一区域中。

根据本实用新型的第六方面,所述空腔部均形成在将所述区域分成沿径向的两个区域的假想线的外周侧。

根据本实用新型的第七方面,所述磁体开口均形成为大体矩形形状;并且所述空腔部均形成为使得其面对所述磁体开口的侧面的至少一部分平行于所述磁体开口的侧面延伸。

根据本实用新型的第八方面,所述磁体开口均包括第一磁体开口和第二磁体开口,所述第一磁体开口和所述第二磁体开口布置成使得它们之间的间隔朝向外周侧变宽,并且相对于径向方向具有彼此相同的磁极方向的两个永磁体分别被插入所述第一磁体开口和所述第二磁体开口中;并且所述区域夹设在所述第一磁体开口和被包括在另一磁体开口中的与所述第一磁体开口相邻的所述第二磁体开口之间。

根据本实用新型的第九方面,提供一种转子,该转子包括:根据第一方面所述的转子铁心;以及永磁体,该永磁体插入所述转子铁心所具有的所述磁体开口中。

根据本实用新型的第十方面,提供一种旋转电机,该旋转电机包括:根据第九方面所述的转子;以及定子,该定子布置成面对所述转子的外周面,而在所述转子和所述定子之间限定有气隙。

附图说明

结合附图考虑下列详细说明,将能够容易地实现对本实用新型以及本实用新型的附带优点的更全面的理解,在附图中:

图1是示出当从轴的轴向方向观看时根据第一实施方式的马达的示意图;

图2是示出根据第一实施方式的转子铁心的布置的示意图;

图3是示出在图2所示的磁体开口部的周围的部分的放大图;

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