[实用新型]单晶评价样片抛光机

权利要求书

1.单晶评价样片抛光机，其特征在于，包括：

基座，在所述基座上设有固定杆以及设置在所述固定杆上的上定盘单元及下定盘单元；其中所述上定盘单元包括通过传送带依次连接的上定盘活动台、上定盘马达及上定盘；以及所述下定盘单元包括通过传送带依次连接的下定盘固定台、下定盘马达及下定盘。

2.根据权利要求1所述的单晶评价样片抛光机，其特征在于，在所述上定盘马达及所述上定盘之间设有压力汽缸。

3.根据权利要求2所述的单晶评价样片抛光机，其特征在于，在所述上定盘单元及所述下定盘单元中还分别进一步包括一连接件，分为上连接件及下连接件；所述上连接件分别与所述上定盘活动台、所述上定盘马达及所述压力汽缸连接；所述下连接件分别与所述下定盘固定台及所述下定盘马连接。

4.根据权利要求1所述的单晶评价样片抛光机，其特征在于，所述上定盘单元及所述下定盘单元的位置为可调式，调整的水平幅度为：5<X<(R/2)，其中X为调整的幅度，R为硅片半径。

5.根据权利要求2所述的单晶评价样片抛光机，其特征在于，所述压力汽缸的重量小于5千克。

6.根据权利要求1所述的单晶评价样片抛光机，其特征在于，所述上定盘马达及所述下定盘马达为可调式且旋转角速度大于等于60转/分钟。

7.根据权利要求1所述的单晶评价样片抛光机，其特征在于，所述单晶评价样片抛光机还与一抛光液循环泵辅助系统连接。