[实用新型]基于PVDF阵列的压电式次声波传感器有效
申请号: | 201220604790.0 | 申请日: | 2012-11-16 |
公开(公告)号: | CN202928686U | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 万舟;曹碧生;熊新;朱森森;程立;韩锦川 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | G01H11/08 | 分类号: | G01H11/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 650093 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 pvdf 阵列 压电 次声波 传感器 | ||
1.一种基于PVDF阵列的压电式次声波传感器,其特征在于:其包括外壳(1)、接收平膜片(2)、采集平膜片(3)、接收平膜片箍(4)、采集平膜片箍(5)、基座(6)、PVDF压电薄膜(7),外壳(1)固定在基座(6)上,接收平膜片(2)和采集平膜片(3)通过接收平膜片箍(4)和采集平膜片箍(5)固定在外壳(1)的两截面端上, PVDF压电薄膜(7)阵列设置在采集平膜片(3)的靠近基座(6)的一侧。
2.根据权利要求1所述的基于PVDF阵列的压电式次声波传感器,其特征在于:外壳(1)为圆柱形,其两截面端边缘带有螺纹。
3.根据权利要求1所述的基于PVDF阵列的压电式次声波传感器,其特征在于:接收平膜片箍(4)、采集平膜片箍(5)和基座(6)为同心圆状,接收平膜片箍(4)和采集平膜片箍(5)内沿带有螺纹,接收平膜片箍(4)和采集平膜片箍(5)内沿螺纹与外壳(1)两截面端边缘螺纹相匹配。
4.根据权利要求1所述的基于PVDF阵列的压电式次声波传感器,其特征在于:接收平膜片(2)和采集平膜片(3)间的空腔内注满硅油。
5.根据权利要求1所述的基于PVDF阵列的压电式次声波传感器,其特征在于:基座(6)上设置有固定孔(8)和信号线引出孔(9)。
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