[实用新型]水钻磨抛机的磨抛机构有效
申请号: | 201220622560.7 | 申请日: | 2012-11-22 |
公开(公告)号: | CN202894929U | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 杨朝平;杨朝岳 | 申请(专利权)人: | 瑞安市万嘉机械有限公司 |
主分类号: | B24B9/16 | 分类号: | B24B9/16 |
代理公司: | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人: | 林元良 |
地址: | 325200 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水钻 磨抛机 机构 | ||
1.一种水钻磨抛机的磨抛机构,包括电机、研磨盘和抛光盘,其特征在于:所述研磨盘的中心和抛光盘的中心位于同一轴线上,所述研磨盘和抛光盘均与所述电机传动连接。
2.根据权利要求1所述的水钻磨抛机的磨抛机构,其特征在于:所述研磨盘和抛光盘上分别设有第一驱动轴和第二驱动轴,所述第二驱动轴内设有通孔,所述第一驱动轴可转动置于通孔内,所述第一驱动轴和第二驱动轴都与电机传动连接。
3.根据权利要求2所述的水钻磨抛机的磨抛机构,其特征在于:所述第一驱动轴下端设有第一皮带轮,所述第二驱动轴下端设有第二皮带轮,其中,第一皮带轮的直径比第二皮带轮直径小,所述第一齿轮和第二齿轮都通过传动带与电机连接。
4.根据权利要求1所述的水钻磨抛机的磨抛机构,其特征在于所述研磨盘与抛光盘可以同心设置也可以上下设置。
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