[实用新型]带磁路总成的扬声器有效

专利信息
申请号: 201220632883.4 申请日: 2012-11-26
公开(公告)号: CN202907176U 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 陈权江 申请(专利权)人: 陈权江
主分类号: H04R9/06 分类号: H04R9/06
代理公司: 温州瓯越专利代理有限公司 33211 代理人: 李友福
地址: 325000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁路 总成 扬声器
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种发声装置,更具体地说,它涉及一种带磁路总成的扬声器。

背景技术

随着社会的进步、科学技术的发展,电子产品得到大量的普及。扬声器、喇叭、多功能振动发声器等均需要磁路总成驱动音膜压圈或振动片振动。为了得到更好的听觉上的享受,人们对发声装置的性能要求越来越高。磁路总成作为发声装置中的重要部件之一,其好坏直接影响着发声装置的性能。

如图5为现有技术的带有磁路总成的扬声器实施例示意图,包括音膜盖1、音膜总成2和磁路总成3,所述音膜盖1设有带开口的音膜盖凹腔11,音膜总成2置于音膜盖凹腔11内,磁路总成3置于音膜盖凹腔11的开口处且与音膜盖1紧固连接,音膜总成2包括音膜21、音膜纸垫22和音膜压圈23,所述磁路总成3包括后导磁体31、前导磁体32和磁体33,其中后导磁体31中间为设有开口的后导磁体凹腔311,磁体33为一整体的块状结构且置于凹腔311的底部,前导磁体32安设在后导磁体凹腔311内且抵触设置在磁体33上,后导磁体凹腔311的底部还设有磁体定位圈34,磁体定位圈34套设在磁体33的外表面。

由于磁体33为一整体的块状,产生的磁场较弱;磁体33是置于后导磁体凹腔311内部的,磁体33的顶部又设有前导磁体32,在与扬声器的音膜盖1连接后,整个磁路总成处于一个封闭的环境下,散热性能极差,这将导致整个扬声器的使用寿命变短;磁体33产生的磁场受前导磁体32的影响,无法最大限度地集中在音膜压圈的周围,使得磁场功效较差。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种能够有效提高磁路总成的磁场性能、使磁体产生的磁场最大限度地集中在音膜压圈的周围从而提高磁场功效的带磁路总成的扬声器。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种带磁路总成的扬声器,包括音膜盖、音膜总成和磁路总成,所述音膜盖设有带开口的音膜盖凹腔,音膜总成置于音膜盖凹腔内,磁路总成置于音膜盖凹腔的开口处且与音膜盖紧固连接,所述磁路总成包括后导磁体和前导磁体,所述后导磁体包括一体设置的底座和中心柱,前导磁体套设在中心柱相对底座的另一端,所述中心柱的外侧面布满若干紧密相连的磁体,磁体均置于底座和前导磁体之间,且分别与底座和前导磁体抵触连接。

通过采用上述技术方案,中心柱的外侧面布满若干紧密相连的磁体,大大提高了磁场性能;磁体均置于底座和前导磁体之间,这使得磁性集中在音膜压圈周围,大大提高了磁场功效;由于采用了这样的磁路总成,整个扬声器的性能都得到了有效提高。

本实用新型进一步设置为:所述底座、中心柱和磁体均为圆柱状结构,底座直径大于中心柱直径,磁体沿中心柱的圆周方向均匀分布,磁体的轴向长度与前导磁体的轴向长度之和等于中心柱的轴向长度。

通过采用上述技术方案,底座、中心柱和磁体均为圆柱状,磁体均匀且紧密地分布,这使得整个磁路系统的结构更加美观,并且磁体和磁体紧贴处均方便磁体散热,相对传统的设置方式,整个磁路系统具有更大的散热面积,散热效果佳,从而能够有效提高扬声器的使用寿命;磁体的轴向长度与前导磁体的轴向长度之和等于中心柱的轴向长度,使得后导磁体、前导磁体和磁体之间的连接更紧凑,结构可靠。

本实用新型进一步设置为:所述底座相对中心柱的一侧设有磁体定位圈,磁体定位圈套设在中心柱上且置于中心柱与磁体之间,所述磁体定位圈与磁体抵触连接。

通过采用上述技术方案,磁体定位圈的设置使得磁体能够更加稳定可靠地置于底座上。

本实用新型进一步设置为:所述音膜盖连接有紧固螺栓,音膜盖与前导磁体通过紧固螺栓相连接。

通过采用上述技术方案,实现音膜盖和磁路总成紧固连接,使得整个扬声器结构连接可靠。

附图说明

图1为本实用新型带磁路总成的扬声器实施例的结构示意图;

图2为本实用新型带磁路总成的扬声器实施例的立体图;

图3为磁路总成的结构示意图;

图4为磁体的分布示意图;

图5为现有技术带磁路总成的扬声器的结构示意图。

具体实施方式

参照图1至图4对本实用新型带磁路总成的扬声器实施例做进一步说明。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陈权江,未经陈权江许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220632883.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top