[实用新型]滴液计量装置的转盘平移结构有效
申请号: | 201220635653.3 | 申请日: | 2012-11-27 |
公开(公告)号: | CN202962381U | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 詹烱仁 | 申请(专利权)人: | 宏益科技股份有限公司 |
主分类号: | B01F15/02 | 分类号: | B01F15/02;B01F15/04;B01L3/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周长兴 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 计量 装置 转盘 平移 结构 | ||
技术领域
本实用新型是有关于一种染料自动滴液计量装置的改良,尤其指一种滴液计量装置的转盘平移结构,在配置有两个转盘的滴液计量装置中的其中一个转盘机构配置有一转盘平移结构,以相对应于另一转盘作相对位移。
背景技术
染料自动滴液的计量装置,在传统上,主要分为有管路式及无管路式滴液两种,其中有管路式的染料自动滴液计量装置,是在机台上方设置有一容器置放平台,其上列置有复数个原料容器,每一个原料容器顶部设有一电磁阀及套接有一支滴液导管,该滴液导管延伸至容器置放平台的下方空间。在该机台的下方位置设置有一圆形转盘,并在该圆形转盘上环列有数个孔洞,每一个孔洞承置一个染杯。该圆形转盘由一马达驱动旋动,以将其中一个选定的染杯旋转至一计量天平上方的位置,以进行滴液量的计量作业。而,染料原料是由一计算机控制及设于各个原料容器上的电磁阀的控制,由不同的原料容器取出不同比例的原料,再经由滴液导管及滴液头滴落在染杯内,同时在该滴液过程中,由该计量天平进行计量工作。
至于无管路的染料自动滴液计量装置,则是以无管路式的架构来取代前述的滴液导管,在一机架设置至少一原料容器转盘,原料容器转盘上以环状排列置复数个原料容器,在原料容器转盘的下方配置一染杯转盘,染杯转盘设有数个环列的孔洞,每一洞孔用以承置一个染杯,每一个染杯下方由一杯托所承托,并在其下方设有一计量天平。而,原料则是由一计算机配合滴液装置的控制,由不同的原料容器取出不同比例的原料,再将原料由滴液装置滴落在染杯内。
在实际应用上可能会使用其中一种管路系统或同时使用两种管路系统。而在转盘机构的设计中,传统设计主要是单转盘的架构,但近期为了增进染液滴液及计量的效能,故有两个转盘以上的结构设计,且搭配配置有无管路式及有管路式滴液计量天平的染料自动滴液计量装置更符合业界的使用。在较新设计的染料滴液系统中,结合了计算机的控制及自动计量的机构,使该系统具有高精密度的计量,且可以使化验室的再现性比人工操作更为统一。然而,在现有的染料滴液装置的机构设计中,纵使有计算机系统的辅助,但要使承置在两个以上转盘机构的染杯顺利精准地进行染液、助剂、水的滴液及计量,业者仍以人工计量的方式来进行滴液的计量作业,故仍需依赖大量人力的辅助,故不利于产能的提升。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种滴液计量装置的转盘平移结构,以改进公知技术中存在的缺陷。
为实现上述目的,本实用新型提供的滴液计量装置的转盘平移结构,在一滴液计量装置中设置有一第一转盘机构及至少一第二转盘机构,其中:
该第一转盘机构包括有:
一第一盘体,以一第一水平面配置在该滴液计量装置中;
一第一盘体旋转机构,结合于该第一盘体,以驱动该第一盘体旋转;
复数个内圈槽位,彼此相邻地环列在该第一盘体的一内圈;
复数个内圈染液瓶,一一地承置定位在该内圈槽位中,该各个内圈染液瓶的一侧面各设置有一内圈滴液单元,该内圈染液瓶随着该第一盘体旋转时,该内圈滴液单元以一内同心圆轨迹旋转,并在该内同心圆轨迹下方的其中一位置定义为一内圈滴液位置;
复数个外圈槽位,彼此相邻地环列在该第一盘体的一外圈;
复数个外圈染液瓶,一一地承置定位在该外圈槽位中,该各个外圈染液瓶的一侧面各设置有一外圈滴液单元,该外圈染液瓶随着该第一盘体旋转时,该各个外圈滴液单元以一外同心圆轨迹旋转,并在该外同心圆轨迹下方的其中一位置定义为一外圈滴液位置;
该第二转盘机构包括有:
一第二盘体,以一第二水平面配置在该滴液计量装置中,该第二水平面与该第一水平面具有一高度差;
一第二盘体旋转机构,结合于该第二盘体,以驱动该第二盘体旋转;
复数个染杯槽位,彼此相邻地环列在该第二盘体;
复数个染杯,一一地承置定位在该染杯槽位中,该染杯随着该第二盘体旋转时,该各个染杯以一染杯同心圆轨迹旋转;
该转盘平移结构包括有:
一承载座,该第二转盘机构的该第二盘体旋转机构及该第二盘体系受承载在该承载座上;
一导引机构,设置在该承载座的下方;
一平移驱动单元,结合于该承载座,驱动该承载座沿着该导引机构以一平移方向位移,并使该第二转盘机构的其中一染杯对准于该内圈滴液位置或该外圈滴液位置。
所述滴液计量装置的转盘平移结构,其中该承载座上对应于该第二盘体的至少一染杯槽位下方设置有一计量天平,且该染杯槽位中的染杯承置在该计量天平上。
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