[实用新型]一种对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及溅射镀膜设备，特别是一种对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置。

背景技术

由于真空镀膜要处在真空腔室中完成，镀膜期间，在真空腔中做任何运动和操作都会受到诸多限制。一般情况下，对于单件圆柱体侧表面实施均匀镀膜比较容易，而对于大批量的圆柱体侧表面的均匀镀膜就比较困难。因为众多圆柱体侧表面放在腔室中面对溅射源（或蒸发源）等相互干涉，而且面向角度不同，所镀厚度会不同，因此实际生产应用中，难以实施整个圆柱表面均匀镀膜。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置，它主要解决现有技术中对于大批量的圆柱体侧表面的镀膜操作中，众多圆柱体侧表面放在腔室中面对溅射源相互干涉的技术问题，达到了大批被镀圆柱体侧表面实现均匀镀膜的目的。

为实现上述目的，本实用新型是这样实现的。

一种对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置，其特征在于：它包括由驱动机构连接驱动的转鼓，该转鼓侧表面沿轴线方向开若干槽，槽的尺寸略大于被镀圆柱体的直径。

所述的对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置，其特征在于：所述的槽的半径方向的上下面用丝网或细丝支承。

所述的对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置，其特征在于：所述的丝网或细丝通过卡具固定。

所述的对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置，其特征在于：所述的转鼓通过磁流体或密封结构连接到腔室外与腔室外驱动机构相连。

所述的对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置，其特征在于：蒸发源或溅射源分布于转鼓外表面圆周外及内表面圆周内。

本实用新型的技术效果是：本实用新型装置使用时，被镀圆柱体侧表面不同直径方向通过转鼓公转和被镀圆柱体自转，获得暴露给蒸发源或溅射源的时间及机会基本均等，镀膜过程时间越长，其获得暴露给蒸发源或溅射源等的时间及机会越均等，这样达到了大批被镀圆柱体侧表面实现均匀镀膜的目的。

附图说明

图1是本实用新型的外观结构示意图。

图2是图1的A向视图。

图3是本实用新型中卡具的结构示意图。

图4是图3的俯视图。

图5是图3的B-B向剖视图。

具体实施方式

请参阅图1-5，本实用新型公开了一种对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置。如图所示：它包括由驱动机构连接驱动的转鼓1，该转鼓1侧表面沿轴线方向开若干槽2，槽2的尺寸略大于被镀圆柱体的直径。因此，槽2的尺寸应根据被镀圆柱体的直径设定，保证被镀圆柱体留有自转间隙而确定，转鼓1的直径、槽数，转鼓1或槽2长度依据每批需镀膜的圆柱体的数量确定。：所述的槽2的半径方向的上下面用丝网3或其他物件（如：细丝）支承，所述的丝网3通过卡具4固定。

本实用新型中，所述的转鼓通过磁流体或密封结构连接到腔室外与腔室外驱动机构相连。蒸发源或溅射源分布于转鼓1外表面圆周外及内表面圆周内。

本实用新型使用时，转鼓1通过磁流体或其它方式密封连接到腔室外与腔室外驱动机构相连，驱动机构驱动转鼓1均匀转动，转鼓1的槽2内的被镀圆柱体5也作相应自转。蒸发源或溅射源（如图中的上阴极61和下阴极62）等分布于转鼓1外表面圆周外及内表面圆周内，并保持镀膜的适当距离，镀膜过程经过一定的时间，被镀圆柱体5侧表面不同直径方向通过转鼓公转和被镀圆柱体自转，获得暴露给蒸发源或溅射源的时间及机会基本均等，镀膜过程时间越长，其获得暴露给蒸发源或溅射源等的时间及机会越均等，这样达到了大批被镀圆柱体侧表面实现均匀镀膜的目的。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用来限定本实用新型的实施范围。即凡依本实用新型申请专利范围的内容所作的等效变化与修饰，都应为本实用新型的技术范畴。