[实用新型]用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置。

背景技术

柔性线材泛指具有弯曲弯绕能力的线材，比如电缆、聚合物线材、金属线材等。为了增加柔性线材的耐磨性或者耐腐蚀性或者美观度，常常在柔性线材表面通过电弧喷镀或者浸镀一层或者多层保护膜，以达到柔性线材具有耐磨、耐腐蚀或者装饰等效果。例如，中国专利文献CN 1664159 A公开一种“电弧喷镀装置”，该装置包括:线材供给装置,其具有将两个喷镀线材送出的推动输送部；喷镀枪,其具有中继从所述线材供给装置所送出的所述两个喷镀线材并输送到工件上的拉伸输送部,并进行电弧喷镀；导向管,其在所述线材供给装置和所述喷镀枪之间进行所述两个喷镀线材的输送引导,其特征在于,所述导向管从所述线材供给装置的连接侧到规定长度的内径是通常的内径,从这里到对所述喷镀枪的连接侧的内径是比通常内径更大的内径。由此,提供一种能够始终以一定的速度输送喷镀线材,因此能够使均匀的喷镀膜形成的电弧喷镀装置。此装置虽然能对线材表面进行喷镀薄膜，但是此装置结构复杂，薄膜的稳定性较差，不能长时间附着在柔性线材表面，并且由于线材横截面积小，电弧喷镀时会浪费很多材料，使得生产成本居高不下，而且也给后续处理喷镀材料带来了困难。

目前，磁控溅射镀膜技术是当前广泛应用的真空镀膜技术方法，被普遍应用于光学、微电子、耐磨、耐腐蚀、装饰等产业领域，用以提供可靠而稳定的薄膜镀层，可为被镀膜产品提供某方面的特性。因此为了解决目前柔性线材镀膜的缺陷，可以将磁控溅射镀膜技术应用到柔性线材上，但是目前的磁控溅射装置具有以下缺陷：1、只能对单一的个体镀膜，如玻璃、钻头、手机壳等，而不能对连续的线材进行镀膜；2、由于磁控溅射不具备绕射功能，单个靶只能对单一平面镀膜，缺乏多面镀膜能力。因此需要对磁控溅射装置进行改进，才能对柔性线材进行连续的稳定的镀膜。

实用新型内容

本实用新型的一个目的在于，提供一种用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置，可以实现对柔性线材表面进行磁控溅射镀制功能薄膜，增加薄膜的稳定性。

本实用新型的一个目的在于，提供一种用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置，可以进行连续生产，使柔性线材能连续镀膜，提高生产效率。

本实用新型的一个目的在于，提供一种用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置，可以在柔性线材的表面进行完整的镀膜工作，并且镀制的膜层均匀。

为达上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置，包括真空相连的用于装载待镀柔性线材的装载室、用于对柔性线材进行镀膜的磁控溅射镀膜室以及用于对完成镀膜的柔性线材进行收卷的收卷室，所述装载室内设置用于对柔性线材放卷的第一转轴，所述收卷室内设置用于对柔性线材收卷的第二转轴，所述第二转轴的输出端连接有使其均匀转动的动力装置，所述柔性线材的一端设置在第一转轴上，另一端依次穿过所述装载室、磁控溅射镀膜室固定在所述收卷室内的第二转轴上，以柔性线材为中心在所述磁控溅射镀膜室上环形均布至少三个溅射靶。

优选的，所述磁控溅射镀膜室包括依次设置的用于对柔性线材表面进行处理的预处理室、对柔性线材镀制多层膜的多个镀膜室，以及相邻镀膜室之间的真空过渡室，镀膜室和真空过渡室的数量是根据柔性线材表面镀制的膜层数来决定的。

作为用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置的一种优选方案，所述装载室与所述磁控溅射镀膜室之间设置第一过渡腔，所述装载室靠近所述第一过渡腔的一侧设置装载室导线孔，所述收卷室与所述磁控溅射镀膜室之间设置第二过渡腔，所述收卷室靠近所述第二过渡腔的一侧设置收卷室导线孔。

作为用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置的一种优选方案，所述装载室导线孔的中心、多个溅射靶发射的中心以及收卷室导线孔的中心均与所述柔性线材的轴心线重合。

作为用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置的一种优选方案，所述第二过渡腔与所述收卷室之间依次设置加热室和第三过渡腔。

作为用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置的一种优选方案，所述溅射靶为三个，环形分布在所述磁控溅射镀膜室上，且此三个溅射靶与柔性线材之间的距离一致。

作为用于柔性线材表面镀膜的磁控溅射装置的一种优选方案，所述溅射靶为四个，环形分布在所述磁控溅射镀膜室上，且此四个溅射靶与柔性线材之间的距离一致。