[实用新型]超高光泽PP数码相纸有效
申请号: | 201220668314.5 | 申请日: | 2012-12-03 |
公开(公告)号: | CN203004564U | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 林贤福;张大同;吕德水 | 申请(专利权)人: | 杭州华大海天科技有限公司 |
主分类号: | B41M5/50 | 分类号: | B41M5/50;B32B9/04;B32B27/14;B32B27/32;B32B33/00 |
代理公司: | 浙江永鼎律师事务所 33233 | 代理人: | 王梨华;陈丽霞 |
地址: | 311500 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 超高 光泽 pp 数码 相纸 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种数码相纸,尤其涉及一种超高光泽PP数码相纸。
背景技术
在现代生活中,数码相片越来越普及。人们对于数码相纸的需求量急剧增加,对数码相纸的要求也越来越高。市场上的数码相纸的种类繁多,常见的数码相纸结构如名称为“喷墨打印高光相纸”,申请人为“王树恒”,申请日为“2007年9月12日”,申请号为“200720114829.X”,授权公告日为“2008年8月13日”,授权公告号为“CN201099020Y”的中国实用新型专利所示。该专利中数码相纸的结构依次包括有:功能层、PE膜、照相原纸、PE膜粘合在一起。所述的功能层由三层组成,最外层是面层,中间的是固墨层和最里面的是吸墨涂层。
但是市场上的数码相纸均存在无法同时满足防水、高光、耐用的需求,更无法同时满足防水、高光、防伪、耐用的需求。
本申请人针对以上现有技术的缺陷,曾进行探索一些数码相纸的结构,能够同时满足防水、高光、耐用的需求,更能够同时满足防水、高光、防伪、耐用的需求,如名称为“高光防水PVC数码相纸”,申请人为“杭州华大海天科技有限公司”,申请日为“2010年8月24日”,申请号为“201020502240.9”,授权公告日为“2011年3月23日”,授权公告号为“CN201769462U”的中国实用新型专利所示。该专利中数码相纸包括基材和涂层,涂层涂覆于基材表面,涂层自下而上为吸墨涂层和固墨层,基材为PVC层,PVC层与吸墨涂层之间设有粘结层,固墨层的上表面设有高光防水层。
现在,本申请人在此基础上进行进一步探索,对上述高光防水的数码相纸的结构进行优化,对其性能进行改善,达到超高光泽的效果。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种超高光泽PP数码相纸,能够同时满足超高光泽、防水、耐用的需求。
为了解决上述技术问题,本实用新型通过下述技术方案得以解决:
超高光泽PP数码相纸,包括基材和涂层,涂层涂覆于基材表面,涂层为吸墨涂层,基材为PP层,PP层与吸墨涂层之间设有吸水层,吸墨涂层的上表面设有超高光防水层,所述的超高光防水层为表面具有镜面特征的超高光防水层。吸墨涂层为二氧化硅和氧化铝的混合层。
作为优选,表面具有镜面特征的超高光防水层为纳米级二氧化硅,纳米级二氧化硅粒径<100纳米。超高光防水层使数码相纸具有超高光泽,打印的照片更加逼真清晰,画面质量效果更好,防水性能优异。
作为优选,还包括防伪层。
作为优选,防伪层设于PP层的上表面或下表面。
作为优选,防伪层的厚度为0.01~0.08毫米。
作为优选,表面具有镜面特征的超高光防水层的厚度>0.015毫米。
作为优选,PP层的厚度为0.01~1.5毫米。PP为聚丙烯。
本实用新型提供了一种超高光泽PP数码相纸,能够同时满足超高光泽、防水、耐用的需求,涂层吸墨性能好,具有超高光泽,打印的照片色彩逼真,画面质量效果更好,防水性能优异。
附图说明
图1为本实用新型实施例1的结构示意图;
图2为本实用新型实施例2的结构示意图;
图3为本实用新型实施例3的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图1至3与实施例对本实用新型作进一步详细描述。
实施例1
超高光泽PP数码相纸,如图1所示,包括基材和涂层,涂层涂覆于基材表面,涂层为吸墨涂层3,基材为PP层1,PP层1与吸墨涂层3之间设有吸水层2,吸墨涂层3的上表面设有超高光防水层4,所述的超高光防水层4为表面具有镜面特征的超高光防水层4。
表面具有镜面特征的超高光防水层4为纳米级二氧化硅,纳米级二氧化硅粒径为50纳米。
表面具有镜面特征的超高光防水层4的厚度为0.02毫米。
PP层1的厚度为0.1毫米。PP为聚丙烯。
实施例2
超高光泽PP数码相纸,如图2所示,其基本结构与实施例1相似,其区别在于:还包括防伪层5。
防伪层5设于PP层1的上表面。
防伪层5的厚度为0.05毫米。
实施例3
超高光泽PP数码相纸,如图3所示,其基本结构与实施例2相似,其区别在于: 防伪层5设于PP层1的下表面。
总之,以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,凡依本实用新型申请专利范围所作的均等变化与修饰,皆应属本实用新型专利的涵盖范围。
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