[实用新型]一种改进的AOD炉耐火砖衬结构有效

专利信息
申请号: 201220670008.5 申请日: 2012-12-07
公开(公告)号: CN202989203U 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 王雁和;王平 申请(专利权)人: 广东华鳌合金新材料有限公司
主分类号: C21C7/072 分类号: C21C7/072;F27B14/04;F27B14/10
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摘要:
搜索关键词: 一种 改进 aod 耐火砖 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及AOD炉技术领域,特别涉及一种改进的AOD炉耐火砖衬结构。

背景技术

AOD炉又叫做氩氧精炼炉,是一种炉外精炼钢液的方法,主要的任务是脱碳保铬,并且能够很好的搅拌钢液,可以生产低碳钢,乃至超低碳钢。

AOD炉的保温隔热层通常采用镁钙砖砌筑,镁钙砖具有良好的耐火性能和隔热保温性能,但镁钙砖的成本较高。在满足AOD炉耐火保温要求的前提下,尽量减少AOD炉中砌筑的镁钙砖长度,可有效节省镁钙砖材料,同时还能增加AOD炉内的容量,延长AOD炉的炉龄。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足,提供一种结构简单,设计合理、使用方便的改进的AOD炉耐火砖衬结构。

为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:本实用新型所述的一种改进的AOD炉耐火砖衬结构,包括炉体、设置在炉体内壁上的保温隔热层和设置在炉体底面上的底砖层,所述炉体内壁和保温隔热层之间设置有永久层,所述保温隔热层主要由若干层镁钙砖组成;所述保温隔热层的第一层镁钙砖、第二层镁钙砖、第三层镁钙砖、第四层镁钙砖、第五层镁钙砖、第六层镁钙砖和第七层镁钙砖的长度为480~530mm;所述保温隔热层的第八层镁钙砖、第九层镁钙砖、第十层镁钙砖和第十一层镁钙砖的长度为420~480mm。

进一步地,所述保温隔热层的第一层镁钙砖、第二层镁钙砖、第三层镁钙砖、第四层镁钙砖、第五层镁钙砖、第六层镁钙砖和第七层镁钙砖的长度为500mm。

进一步地,所述保温隔热层的第八层镁钙砖、第九层镁钙砖、第十层镁钙砖和第十一层镁钙砖的长度为450mm。

采用上述结构后,本实用新型有益效果为:本实用新型所述的一种改进的AOD炉耐火砖衬结构,包括炉体、设置在炉体内壁上的保温隔热层和设置在炉体底面上的底砖层,所述炉体内壁和保温隔热层之间设置有永久层,所述保温隔热层主要由若干层镁钙砖组成;所述保温隔热层的第一层镁钙砖、第二层镁钙砖、第三层镁钙砖、第四层镁钙砖、第五层镁钙砖、第六层镁钙砖和第七层镁钙砖的长度为480~530mm;所述保温隔热层的第八层镁钙砖、第九层镁钙砖、第十层镁钙砖和第十一层镁钙砖的长度为420~480mm。使用本实用新型时,通过使用大量较小规格的镁钙砖,在保证AOD炉耐火保温要求的前提下,有效节省了镁钙砖材料,同时还扩大了AOD炉内的容量,延长了AOD炉的炉龄。

本实用新型具有结构简单,设置合理,制作成本低等优点。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

附图标记说明:1、炉体;2、永久层;3、保温隔热层;301、第一层镁钙砖;302、第二层镁钙砖;303、第三层镁钙砖;304、第四层镁钙砖;305、第五层镁钙砖;306、第六层镁钙砖;307、第七层镁钙砖;308、第八层镁钙砖;309、第九层镁钙砖;310、第十层镁钙砖;311、第十一层镁钙砖;4、底砖层。 

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

如图1所示,本实用新型所述的一种改进的AOD炉耐火砖衬结构,包括炉体1、设置在炉体1内壁上的保温隔热层3和设置在炉体1底面上的底砖层4,所述炉体1内壁和保温隔热层3之间设置有永久层2,所述保温隔热层3主要由若干层镁钙砖组成。所述保温隔热层3的第一层镁钙砖301、第二层镁钙砖302、第三层镁钙砖303、第四层镁钙砖304、第五层镁钙砖305、第六层镁钙砖306和第七层镁钙砖307的长度为480~530mm;所述保温隔热层3的第八层镁钙砖308、第九层镁钙砖309、第十层镁钙砖310和第十一层镁钙砖311的长度为420~480mm。

作为本实用新型的一种优选方式,所述保温隔热层3的第一层镁钙砖301、第二层镁钙砖302、第三层镁钙砖303、第四层镁钙砖304、第五层镁钙砖305、第六层镁钙砖306和第七层镁钙砖307的长度为500mm。

作为本实用新型的一种优选方式,所述保温隔热层3的第八层镁钙砖308、第九层镁钙砖309、第十层镁钙砖310和第十一层镁钙砖311的长度为450mm,。

在使用本实用新型时,在保证AOD炉耐火保温要求的前提下,不仅可以节省耐火材料的投入,也可以扩大AOD炉的容量,延长AOD炉的炉龄。另外,该结构简单、设计合理,制造成本低。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均包括于本实用新型专利申请范围内。

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