[实用新型]一种水平工件电化学沉积设备有效

专利信息
申请号: 201220675469.1 申请日: 2012-12-10
公开(公告)号: CN202954124U 公开(公告)日: 2013-05-29
发明(设计)人: 郭伟民;黄迎春;廖成;李颖鑫;李世楚;郑兴平;梅军;刘焕明 申请(专利权)人: 中物院成都科学技术发展中心
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00;C25D5/08;H05K3/18
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 王芸;刘雪莲
地址: 610200 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 水平 工件 电化学 沉积 设备
【权利要求书】:

1.一种水平工件电化学沉积设备,包括电化学沉积槽以及设置于沉积槽内用于药液流动的至少一组管道,其特征在于,所述每组管道包括中心线相互平行的吸管和喷管,所述吸管和喷管上开有孔洞。

2.根据权利要求1所述的水平工件电化学沉积设备,其特征在于,所述吸管与喷管平行于水平面。

3.根据权利要求2所述的水平工件电化学沉积设备,其特征在于,所述每组管道包括一根吸管和一根喷管。

4.根据权利要求3所述的水平工件电化学沉积设备,其特征在于,所述吸管与喷管上的孔洞为一条或多条狭窄的长条孔。

5.根据权利要求3所述的水平工件电化学沉积设备,其特征在于,所述吸管的中心线与喷管的中心线之间的距离小于两管直径总和的四倍。

6.根据权利要求3所述的水平工件电化学沉积设备,其特征在于,所述吸管直径为5mm~80mm;所述喷管直径为5mm~80mm。

7.根据权利要求3所述的水平工件电化学沉积设备,其特征在于,所述吸管横切面中心点到孔洞的方向与吸管横切面中心点到工件表面并垂直于工件表面的方向有0~75度的角度;所述喷管横切面中心点到孔洞的方向与喷管横切面中心点到吸管横切面中心点的方向有15~180度的角度。

8.根据权利要求3至7项中任意一项所述的水平工件电化学沉积设备,其特征在于,所述喷管横切面中心点到所述吸管横切面中心点的方向指向工件表面,并垂直于工件表面。

9.根据权利要求8所述的水平工件电化学沉积设备,其特征在于,所述管道为两排,一排管道位于工件的正面,另一排管道位于工件的背面。

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