[实用新型]调节式布气系统及包含其的磁控溅射镀膜装置

权利要求书

1.一种调节式布气系统，其特征在于，包括至少两根平行设置的布气管，每根所述布气管上均设置流量计，相邻两根所述布气管上错列设置吹气部。

2.根据权利要求1所述的调节式布气系统，其特征在于，所述吹气部是由多个规格相同的均匀排列的气孔构成，每个气孔沿布气管的径向开设，多个气孔在布气管沿其轴向依次布置。

3.根据权利要求2所述的调节式布气系统，其特征在于，所述布气管有三根，分别为第一布气管、第二布气管和第三布气管，所述第一布气管、第二布气管和第三布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，此吹气段从上至下均分为三段，分别为第一段、第二段、第三段，所述第一布气管的第二段设置吹气部，所述第二布气管的第一段设置吹气部，所述第三布气管的第三段设置吹气部，三个所述吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。

4.根据权利要求2所述的调节式布气系统，其特征在于，所述布气管有三根，分别为第一布气管、第二布气管和第三布气管，所述第一布气管、第二布气管和第三布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，此吹气段从上至下均分为三段，分别为第一段、第二段、第三段；

所述第一布气管的第一段、第二段和第三段上分别设置第二吹气部、第一吹气部和第三吹气部，所述第二布气管的第一段、第二段和第三段上分别设置第四吹气部、第五吹气部和第六吹气部，所述第三布气管的第一段、第二段和第三段上分别设置第八吹气部、第九吹气部和第七吹气部；

所述第二吹气部的气孔密度、所述第三吹气部的气孔密度、所述第五吹气部的气孔密度、所述第六吹气部的气孔密度、所述第八吹气部的气孔密度、所述第九吹气部的气孔密度均相同，且均为第一密度；

所述第一吹气部的气孔密度、所述第四吹气部的气孔密度、所述第七吹气部的气孔密度均相同，且均为第二密度；第二密度大于第一密度；

所述第一吹气部、第二吹气部、第三吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第四吹气部、第五吹气部、第六吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第七吹气部、第八吹气部、第九吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第一吹气部、第四吹气部、第七吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。

5.根据权利要求2所述的调节式布气系统，其特征在于，所述布气管有四根，分别为第一布气管、第二布气管、第三布气管和第四布气管，所述第一布气管、第二布气管、第三布气管和第四布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，此吹气段从上至下均分为四段，分别为第一段、第二段、第三段、第四段；

所述第一布气管的第三段设置吹气部，所述第二布气管的第二段设置吹气部，所述第三布气管的第一段设置吹气部，所述第四布气管的第四段设置吹气部，四个所述吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。