[实用新型]硅片整形吸附装置有效
申请号: | 201220685520.7 | 申请日: | 2012-12-13 |
公开(公告)号: | CN203013690U | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 卢森景;王相军;周道全 | 申请(专利权)人: | 上海釜川超声波科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201808 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅片 整形 吸附 装置 | ||
1.一种硅片整形吸附装置,由机板、传送机构、整形机构和吸附机构连接构成,其特征在于:所述的机板的中轴线设有传送机构,所述传送机构的两旁设有整形机构,所述的整形机构为对称安装的两套气缸安装板并连接气缸及整形板,所述的吸附机构由吸附板连接高压气管、真空发生器及电磁阀构成,所述的吸附板设置在传送机构传送带的空腔中,该吸附板的两侧设有对称的高压气管,所述的高压气管穿过机板的通孔,所述的吸附板上面设有对称排列的吸孔,所述的吸孔对准传送带的空隙。
2.根据权利要求1所述的一种硅片整形吸附装置,其特征在于:所述的吸附板为四根方形管材连接的长方形框体,其中两根长管两端的上面设有轴向排列的吸孔,所述长管侧面的两端连接高压气管,所述高压气管的管口对准排列吸孔的中心。
3.根据权利要求2所述的一种硅片整形吸附装置,其特征在于:所述的高压气管由横管和竖管连接而成,横管的两个管口分别连接吸附板的侧面的两端,竖管的一端连通横管的中心,另一端连通真空发生器,所述真空发生器的一端设有电磁阀。
4.根据权利要求1所述的一种硅片整形吸附装置,其特征在于:所述的整形板竖置对称分列传送机构的两旁,该整形板下端略低于上行传送带。
5.根据权利要求1所述的一种硅片整形吸附装置,其特征在于:所述的传送机构由电机、转轴、轴座、轮座、皮带轮和传送带连接而成,所述的电机安装在紧靠气缸安装板旁边的机板上,电机的转轴穿过并连接一对轴座,所述的轴座分别固定在两个气缸安装板旁边的机板上,所述的转轴设有一对皮带轮,所述的轮座设置在机板的端头,该轮座设有一对皮带轮,所述转轴上的皮带轮和轮座上的皮带轮相对称,并通过传送带连接。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造