[实用新型]一种磁控溅射镀膜腔室有效

专利信息
申请号: 201220688746.2 申请日: 2012-12-13
公开(公告)号: CN202989275U 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 龙永洪;李建根;徐伯永 申请(专利权)人: 成都南玻玻璃有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 王芸;刘雪莲
地址: 610200 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁控溅射 镀膜
【权利要求书】:

1.一种磁控溅射镀膜腔室,包括设置于溅射室的内部的网罩,其特征在于:所述网罩与溅射室可拆卸连接。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜腔室,其特征在于:所述网罩由连接钢板与不锈钢网组成,所述连接钢板的截面形状与溅射室内腔侧面的截面形状相适配,所述不锈钢网焊接于连接钢板上,所述网罩通过连接螺栓与设置于溅射室上的螺纹固定孔连接。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜腔室,其特征在于:所述溅射室上均布有若干个螺孔,所述网罩上设置有若干个连接孔,所述连接孔的位置与螺纹固定孔的位置一一对应,所述各连接孔内均设置有一个连接螺栓。

4.根据权利要求1至3中任一所述的磁控溅射镀膜腔室,其特征在于:所述网罩的顶面设置有若干个矩形通孔。

5.根据权利要求4所述的磁控溅射镀膜腔室,其特征在于:所述矩形通孔均匀分布于网罩的顶面。

6.根据权利要求5所述的磁控溅射镀膜腔室,其特征在于:所述网罩的横截面呈“U”字型。

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