[实用新型]一种涂膜槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种凹槽装置，特别涉及一种用于制膜工艺的涂膜槽，属于制膜领域。

背景技术

目前采用浸渍涂层技术制备高分子复合膜涂层时，需要先将涂膜液置于涂膜机的方形或倒梯形凹面的涂膜槽中。复合膜底膜在滚轮的驱动和引导下浸入涂膜槽，浸渍一定时间后再由滚轮导出。涂膜液在底膜表面形成一薄层涂层，固化后便成为复合膜，如图1所示。

涂膜液中溶剂具有一定的挥发性，因此涂膜液浓度会随时间发生变化，影响涂层效果，且挥发性溶剂还具有易燃易爆性，存在安全隐患。因此，减少涂膜液溶剂的挥发对控制产品质量和安全生产起着非常重要的作用。

发明内容

为减少涂膜液溶剂挥发，提高涂膜质量，保障安全生产，本实用新型提供了一种涂膜槽。

一种涂膜槽，包括槽体，所述槽体上表面凹陷形成横截面为圆弧形的凹面，所述圆弧形凹面与相配使用的涂膜滚轮的轴心同心，其弧度为π/2~π。

本实用新型所述涂膜槽为轴线方向为直线的凹槽结构，所述涂膜槽上表面的横截面为圆弧形凹面。在进行涂膜时所述涂膜槽的轴线方向与用于涂膜的涂膜滚轮的轴线保持一致。

本实用新型所述槽体上表面凹陷形成圆弧形凹面包括上表面全部或部分凹陷成圆弧形凹面。当上表面全部凹陷时，整个上表面凹陷形成圆弧形凹面；当上表面部分凹陷时，整个上表面则形成弓形凹面。

有机溶剂的挥发量遵循马扎克（B.T.M）公式：G=(5.38+4.1u)P_H·F·M^1/2（u—风速；P_H—25℃时饱和蒸汽压；F—挥发面积；M—分子量）。相同条件下，涂膜液中有机溶剂的挥发量与挥发面积成正比。图2为本实用新型提供涂膜槽与梯形涂膜槽的对比示意图。如图2所述，当涂膜槽轴向长度相同，将梯形凹面改进为圆弧形凹面时，直观可见L₁<L，则涂膜液挥发界面面积F₁<F，因此弧形凹面的涂膜槽的溶剂挥发量降低，对涂膜液的浓度变化影响较小，更有利于涂膜质量稳定。涂膜滚轮与涂膜槽间形成的截面积S₁<S，即在保证相同涂膜面积的条件下，弧形凹面槽所需涂膜液体积要明显小于梯形凹面槽，从而节省涂膜液原料成本。图2中亦可看出，两线段长度之和a+b要大于所夹弧长c，即弧形周长小于梯形周长，意味着弧形凹面槽所用材料面积较小，从而节约加工制造成本。

本实用新型所述涂膜槽优选所述涂膜槽还包括设于涂膜槽下方恒温加热装置，本实用新型所述的恒温加热装置为本领域的现有技术，本领域熟练技术人员可以根据需要控制的涂膜液的温度范围选取合适的恒温装置，本实用新型优选所述恒温加热装置优选为恒温水浴装置。

本实用新型所述恒温加热装置包括与涂膜槽各自独立的恒温加热装置，也包括与涂膜槽形成一体结构的恒温加热装置。本实用新型优选所述恒温加热装置与涂膜槽形成一体结构。

本实用新型一个优选的技术方案为：

一种涂膜槽，包括槽体，所述槽体上表面凹陷形成横截面为圆弧形的凹面，所述圆弧形凹面与相配使用的涂膜滚轮的轴心同心，其弧度为π/2~π；所述槽体的上表面与槽体的底面和侧面形成中空腔体，所述腔体内填充加热介质并设有恒温控制装置。

上述涂膜槽优选所述加热介质为水。

上述涂膜槽优选所述恒温控制装置包括温度传感器和与其相连的加热器。

本实用新型另一个优选的技术方案为：

一种涂膜槽，包括槽体，所述槽体上表面凹陷形成横截面为圆弧形的凹面，所述圆弧形凹面与相配使用的涂膜滚轮的轴心同心，其弧度为π/2~π；所述槽体的上表面与槽体的底面和侧面形成中空腔体，所述腔体内填充加热介质，所述腔体的侧面设有进水口和出水口，所述进水口和出水口依次连接循环泵和恒温加热器。

上述涂膜槽优选所述加热介质为水。

本实用新型的有益效果是：本实用新型所提供涂膜槽可减小涂膜液中溶剂的挥发量，降低溶剂挥发对涂膜液浓度的影响，配合恒温循环水浴系统，可有效提高涂膜质量的稳定性和可靠性，降低产品生产的安全风险。此外，可节约加工原材料和涂膜液用量，降低涂膜工艺的生产成本。

附图说明

图1是涂膜工艺及梯形涂膜槽示意图；

图2为本实用新型提供涂膜槽与梯形涂膜槽的对比示意图；

图3是本实用新型实施例1所述涂膜槽的结构示意图；

附图标记如下：圆弧形凹面1、进水口2、出水口3、中空腔体4、梯形涂膜槽5、涂膜液6、滚轮7、膜8。

具体实施方式