[实用新型]基于全反射原理的光学元件激光预处理装置有效

专利信息
申请号: 201220718469.5 申请日: 2012-12-24
公开(公告)号: CN203062085U 公开(公告)日: 2013-07-17
发明(设计)人: 吴周令;陈坚;吴令奇 申请(专利权)人: 合肥知常光电科技有限公司
主分类号: B23K26/00 分类号: B23K26/00;B23K26/06;B23K26/42
代理公司: 合肥天明专利事务所 34115 代理人: 金凯
地址: 230031 安徽省合肥市高新*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 基于 全反射 原理 光学 元件 激光 预处理 装置
【权利要求书】:

1.基于全反射原理的光学元件激光预处理装置,包括有激光光源,其特征在于:还包括有依次设置于激光光源的后端和透明光学元件一侧面之间的激光能量调整控制装置、激光光束整形处理装置、激光光束分光楔板光束角度调整装置,激光光束分光楔板的第一反射输出端后设置有CCD成像装置,其第二反射输出端后设置有分光装置,分光装置的两分光输出端后分别设置有光电探测器和激光能量测量装置。

2.根据权利要求1所述的基于全反射原理的光学元件激光预处理装置,其特征在于:所述的基于全反射原理的光学元件激光预处理装置还包括有相对透明光学元件另一侧面设置的激光光束吸收装置。

3.根据权利要求1所述的基于全反射原理的光学元件激光预处理装置,其特征在于:所述的光束角度调整装置选用激光高反镜,所述的激光高反镜固定于激光高反镜装夹调整装置上。

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