[实用新型]一种光场强度分布可调制的激光器

权利要求书

1.一种光场强度分布可调制的激光器，包括有激光种子源和扩束系统，所述的激光种子源的出射端相对扩束系统的入射端设置，其特征在于：所述的光场强度分布可调制的激光器还包括有数字微镜器件和数字光处理电路模块，所述的扩束系统的出射端相对数字微镜器件的反射镜设置，所述的数字微镜器件与数字光处理电路模块电连接。

2.根据权利要求1所述的一种光场强度分布可调制的激光器，其特征在于：所述的光场强度分布可调制的激光器还包括有增益介质和泵浦光源，所述的增益介质的入射面相对数字微镜器件反射镜的反射输出端设置，所述的泵浦光源的出射端相对增益介质设置。

3.根据权利要求1所述的一种光场强度分布可调制的激光器，其特征在于：所述的数字微镜器件反射镜的反射输出端和增益介质的入射面之间设置有光隔离器。

4.根据权利要求1所述的一种光场强度分布可调制的激光器，其特征在于：所述的激光种子源选用连续激光器。

5.根据权利要求4所述的一种光场强度分布可调制的激光器，其特征在于：所述的激光种子源选用掺镱光纤激光器或Nd:YAG固体激光器。

6.根据权利要求1所述的一种光场强度分布可调制的激光器，其特征在于：所述的扩束系统由两个共焦凸透镜和设置于两个共焦凸透镜共焦点处的光阑组成。

7.根据权利要求2所述的一种光场强度分布可调制的激光器，其特征在于：所述的增益介质入射面和出射面上均镀有与激光种子源输出的激光光束波长一致的透射膜。

8.根据权利要求2所述的一种光场强度分布可调制的激光器，其特征在于：所述的泵浦光源选用灯泵浦激光器或者半导体泵浦激光器；泵浦光源的泵浦方式为同轴泵浦或者侧端泵浦。