[实用新型]用于半导体集成制造生产线中的微型PVD模块有效
申请号: | 201220724489.3 | 申请日: | 2012-12-25 |
公开(公告)号: | CN203128651U | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 王奉瑾 | 申请(专利权)人: | 王奉瑾 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;H01L21/67 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 528400 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 半导体 集成 制造 生产线 中的 微型 pvd 模块 | ||
1.用于半导体集成制造生产线中的微型PVD模块,包括一壳体,其特征在于:所述壳体横向两侧分别设有供传输带通过的入口和出口,且所述传输带将所述壳体分隔成上腔与下腔,所述壳体之入口和出口处分别设有动态夹持所述传输带的滚筒组,各所述滚筒组包括贴设于传输带上侧的上滚筒和贴设于传输带下侧的下滚筒,所述壳体上还设有驱动所述滚筒组运转的第一伺服电机,所述下腔的侧壁开设有连接抽气装置的排气孔,所述排气孔设有与之适配的排气控制阀,所述下腔内设有移动靶材装置,所述下腔于所述传输带与所述靶材装置之间设有加速电磁场,该微型PVD模块还包括PVD控制系统,所述PVD控制系统包括设于所述上腔内并实时监测所述上腔内气压的气压计,还包括测定所述壳体内表面温度、测定所述靶材装置温度及测定放置于所述传输带上的半导体基板的温度的温度检测装置,还包括控制所述第一伺服电机、所述排气控制阀、靶材装置及加速电磁场工作状态的控制器,所述控制器分别与所述第一伺服电机、排气控制阀、靶材装置、加速电磁场、气压计及温度检测装置电连接。
2.根据权利要求1所述的用于半导体集成制造生产线中的微型PVD模块,其特征在于:所述靶材装置包括用于盛装靶材的加热锅、固接于所述加热锅上的加热装置及一转动的丝杆,所述加热锅或加热装置设有与所述丝杆适配的螺纹孔。
3.根据权利要求2所述的用于半导体集成制造生产线中的微型PVD模块,其特征在于:所述靶材装置还包括设于所述壳体侧壁并驱动所述丝杆转动的第二伺服电机,所述第二伺服电机与所述控制器电连接。
4.根据权利要求1所述的用于半导体集成制造生产线中的微型PVD模块,其特征在于:所述加速磁场包括两分别设置于所述下腔内侧壁的电磁铁。
5.根据权利要求1所述的用于半导体集成制造生产线中的微型PVD模块,其特征在于:所述壳体由外至内依次包括铝壳外层、硅橡胶绝热层及不锈钢内层。
6.根据权利要求1所述的用于半导体集成制造生产线中的微型PVD模块,其特征在于:所述壳体包括相互扣合的上盖与下盖,所述上盖与所述传输带及上滚筒围合成所述上腔,所述下盖与所述传输带及下滚筒围合成所述下腔,所述上盖与下盖的横向侧之间具有形成所述入口和出口的间隙,所述上盖与下盖的纵向侧之间设有公母槽连接结构,所述公母槽内设有密封胶条。
7.根据权利要求1所述的用于半导体集成制造生产线中的微型PVD模块,其特征在于:各所述上滚筒和下滚筒的表面设有弹性层,各所述上滚筒和下滚筒的两端部表面相互接触且过盈配合,各所述上滚筒和下滚筒之间具有供所述传输带通过的间隙,且各所述上滚筒和下滚筒与所述传输带之间过盈配合。
8.根据权利要求7所述的用于半导体集成制造生产线中的微型PVD模块,其特征在于:所述壳体内设有分别支撑各所述上滚筒和下滚筒的上支撑块和下支撑块,各所述上支撑块设有部分收容所述上滚筒的弧形收容槽,所述下支撑块设有部分收容所述下滚筒的弧形收容槽,各所述弧形收容槽分别与各所述上滚筒和下滚筒过盈配合,且各所述上支撑块和下支撑块与所述壳体密封连接。
9.根据权利要求8所述的用于半导体集成制造生产线中的微型PVD模块,其特征在于:各所述上支撑块与下支撑块内设循环冷却槽,所述循环冷却槽与外部的水冷系统连接。
10.根据权利要求7所述的用于半导体集成制造生产线中的微型PVD模块,其特征在于:各所述上支撑块两端设有轴承,各所述上滚筒的两端安装于所述轴承内,且各所述上支撑块与所述壳体于竖直方向上滑动连接,各所述上支撑块上侧及所述壳体顶部之间设有弹簧,所述弹簧压设于所述上支撑块与所述壳体顶部之间。
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