[实用新型]一种再利用硅片清洗机

说明书

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池板制备技术领域，特别涉及一种再利用硅片清洗机。

背景技术

所谓再利用硅片是指由于生产或者硅片表面本身的瑕疵，需要对其进行再处理才能继续利用的硅片。在太阳能电池片生产过程的PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等离子体增强化学气相沉积法工序中由于硅片本身或者生产工艺的问题会产生大量的再利用硅片，需要将沉积在表面的氮化硅膜重新处理干净，从而进行二次生产利用，在印刷工序中由于印刷表面质量的不合格，在硅片进入烧结工序前也需要将已经印刷有浆料的硅片拣出，将硅片表面的浆料清理干净之后再进行二次利用。

PECVD工序中产生的再利用硅片一般需要经过：酸清洗、纯水浸泡、超声清洗和干燥四个步骤，印刷工序中所产生的再利用硅片的处理一般需要经过：纯水浸泡、超声清洗、喷淋和干燥四个步骤。

目前对再利用硅片的处理过程虽然也是经过上述几个步骤，但是各个处理设备之间没有联系，对用于超声清洗的超声槽、用于酸清洗的酸槽、用于纯水浸泡的纯水槽以及用于硅片喷淋的喷淋槽均需要单独铺设管路进行打水和放水，并且各个工艺处理槽之间的距离也比较大，再利用硅片在进行处理的过程中需要大范围的流转，流转过程中不仅会浪费时间，降低生产效率，同时在大范围流转过程中还经常导致硅片的损坏，极不利于生产成本的降低。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种再利用硅片清洗机，以使再利用硅片可以在一个设备内部通过小范围的流转实现硅片的清洗，从而实现节省生产时间，提高生产效率的目的。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种再利用硅片清洗机，所述再利用硅片清洗机包括槽体部分和管路部分，所述槽体部分包括紧密相邻且并排设置并且互不相通的超声槽、酸槽、纯水槽和喷淋槽，所述管路部分包括进水主管和多个带有开关阀的进水支管，所述进水支管与所述超声槽、酸槽、纯水槽和喷淋槽一一对应。

优选的，所述超声槽、酸槽、纯水槽和喷淋槽的底部均设置有带有开关阀的排水口。

优选的，还包括与所述喷淋槽紧密相邻的烘干炉，所述烘干炉内设置有加热系统。

优选的，还包括设置于所述烘干炉的下方，且顶部低于所述喷淋槽底部的废水过滤槽，所述废水过滤槽与所述喷淋槽的底部相通，且所述废水过滤槽底部设置有分别通向所述超声槽和所述纯水槽并带有隔膜泵的回收水循环管路。

优选的，所述废水过滤槽的底部设置有带有开关阀的排水口。

优选的，所述超声槽内的超声振板设置于所述超声槽的底部或侧面上。

优选的，还包括设置于所述酸槽底部的氮气鼓泡装置。

优选的，所述槽体部分的工艺槽由一端向另一端的设置顺序为超声槽、酸槽、纯水槽和喷淋槽。

优选的，还包括将所述槽体部分、管路部分以及所述烘干炉包覆在内的外部壳体，且所述外部壳体的顶部设置有排风口。

由以上技术方案可以看出本实用新型所提供的再利用硅片清洗机，其包括超声槽、酸槽、纯水槽和喷淋槽并且这些处理槽紧密相邻且并排设置，这就使由PECVD工序中和印刷工序中所产生的再利用硅片均可在该设备中清洗完成，并且由于各个槽之间紧密相邻且并排设置，因而可以有效缩小再利用硅片在处理过程中的流转空间，从而节省流转时间，提高生产效率，并最终降低企业的生产成本提高企业利润。

附图说明

图1为本实用新型实施例所提供的再利用硅片清洗机的整体示意图。

具体实施方式

本实用新型的核心是提供一种再利用硅片清洗机，该硅片再利用清洗机可以实现一机多用，即可以同时对由PECVD工序和印刷工序产生的再利用硅片进行处理，同时还有效缩小再利用硅片在处理过程中的流转空间，从而节省流转时间，提高生产效率，并最终降低企业的生产成本提高企业利润。

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步的详细说明。

本实用新型所提供的再利用硅片清洗机，主要用于太阳能电池片在生产过程中由PECVD工序和印刷工序产生的不合格硅片进行处理后重新利用，该再利用硅片清洗机主要包括槽体部分和管路部分，槽体部分具体包括紧密相邻并排设置且互不相通的超声槽10、酸槽11、纯水槽12和喷淋槽13，管路部分包括进水主管8和多个带有开关阀的进水支管6，并且进水支管6与超声槽10、酸槽11、纯水槽12和喷淋槽13一一对应，所谓一一对应应理解为超声槽10、酸槽11、纯水槽12和喷淋槽13中均设置有进水支管6，并且进水支管6均与用于向各个槽内注水的进水主管8相连通。