[实用新型]一种用于MOCVD反应室的电磁加热装置

权利要求书

1.一种用于MOCVD反应室的电磁加热装置，包括石墨基座和线圈，其特征在于：所述石墨基座为圆柱形且线圈设置在石墨基座的下方，所述石墨基座上表面设置有向下凹陷的圆环形凹槽。

2.根据权利要求1所述用于MOCVD反应室的电磁加热装置，其特征在于：所述圆环形凹槽分为上下两级且均与石墨基座同心，上级圆环形凹槽的外直径大于下级圆环形凹槽的外直径，石墨基座中心设置有中心柱，所述中心柱的顶部与上级圆环形凹槽的底部在同一平面上。

3.根据权利要求1所述用于MOCVD反应室的电磁加热装置，其特征在于：所述下级圆环形凹槽的内半径是石墨基座半径的0.3倍，下级圆环形凹槽的外半径是石墨基座半径的0.8倍，下级圆环形凹槽的深度是石墨基座高度的0.7倍。

4.根据权利要求1所述用于MOCVD反应室的电磁加热装置，其特征在于：所述下级圆环形凹槽的深度大于上级圆环形凹槽的深度。

5.根据权利要求1所述用于MOCVD反应室的电磁加热装置，其特征在于：所述上级圆环形凹槽的外直径和深度与晶片的直径和厚度一致。

6.根据权利要求1所述用于MOCVD反应室的电磁加热装置，其特征在于：所述线圈以同心圆的方式均匀盘绕在石墨基座的下方。

7.根据权利要求1所述用于MOCVD反应室的电磁加热装置，其特征在于：所述线圈距石墨基座底部距离小于石墨基座的高度，线圈中心与最外层线圈的距离和石墨基座半径近似相等。