[实用新型]电路板曝光对位的工具有效

专利信息
申请号: 201220742534.8 申请日: 2012-12-28
公开(公告)号: CN203040025U 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 谢国荣;宋小虎;唐政和;刘国汉 申请(专利权)人: 广州杰赛科技股份有限公司
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06;G03F9/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 王茹;曾旻辉
地址: 510310 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电路板 曝光 对位 工具
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及印制电路板技术领域,特别是涉及电路板曝光对位的工具。

背景技术

印制电路板图形转移工艺,是电路板关键工艺,是实现电路板电与信号传输以及信号屏蔽的决定性工艺。大铜皮层的针孔、缺口密切关系到电路板性能,将使电路板出现信号传输原因导致的调试或使用异常,给客户产品带来极大品质隐患,很多客户生产天线类的板对大铜皮针孔、缺口要求严格。

为了减少大铜皮层的针孔、缺口,很多公司采用曝光两次,以减少针孔、缺口的方法,对针孔、缺口确实会有很大的改善,但第二次曝光必须重新以第一次曝光为基准,用纯手工重新进行对位曝光。

采用两次曝光时,由于需要采用纯手工重新进行对位曝光,所以对位效率低,当需要高效对位时,需要操作者人为提高对位曝光频率,这样做大大增加了操作者的工作量,由于操作者的精力有限,这样单纯依靠操作者人为提高对位曝光频率实现高效对位的方法必然无法保证对位的精度。

实用新型内容

基于此,有必要针对现有纯手工进行电路板两次曝光对位效率低或对位精度差的问题,提供一种对位效率高、对位精准的电路板曝光对位工具。

一种电路板曝光对位的工具,包括至少两张底片,每张所述底片至少固定有一组直角定位边条,所述直角定位边条固定在所述底片的有效图形区域外,且所述直角定位边条固定在每张所述底片上的位置相同;

每组所述直角定位边条都包括第一边条和第二边条,所述第一边条和所述第二边条分别与所述底片相邻的两边平行。

在其中一个实施例中,每张所述底片上固定有至少一组辅助定位边条,所述辅助定位边条固定在所述底片的有效图形区域外,所述辅助定位边条固定在所述底片上的位置相同。

在其中一个实施例中,所述辅助定位边条固定在所述第一边条或所述第二边条的延长线上。

在其中一个实施例中,所述直角定位边条通过铆钉固定在所述底片上。

在其中一个实施例中,所述辅助定位边条通过铆钉固定在所述底片上。

在其中一个实施例中,所述直角定位边条为刚性材料的定位边条。

在其中一个实施例中,所述辅助定位边条为刚性材料的定位边条。

在其中一个实施例中,所述第一边条的长度为50厘米、宽度为2厘米、厚度在1到2毫米之间,所述第二边条的长度为20厘米、宽度为2厘米、厚度在1到2毫米之间。

在其中一个实施例中,所述辅助定位边条的长度为20厘米、宽度为2厘米、厚度在1到2毫米之间。

本实用新型电路板曝光对位的工具进行曝光对位操作,在进行第一次曝光时,使用第一张底片曝光,将电路板紧靠直角定位边条放置,电路板与底片的位置相对固定,底片透光区域就会造成干膜曝光,完成第一次曝光后,电路板板面上干膜已经有了图形,进行下一次曝光时,再直接将电路板紧靠下一次曝光的底片的直角定位边条放置,如此循环操作,直至完成全部曝光,每张底片的直角定位边条位置相同,所以电路板放上去后,底片透光位置会与板面第一次曝光位置重叠,由于多次曝光对位过程只需简单将电路板紧贴直角定位边条放置,整个过程消耗的时间非常少,因而本实用新型电路板曝光对位的工具可以高效率、高精度实现电路板曝光对位。

附图说明

图1为本实用新型电路板曝光对位的工具的其中一个实施例的结构示意图;

图2为本实用新型电路板曝光对位的工具的其中一个实施例的结构示意图。

具体实施方式

由于电路板进行多次曝光所使用的底片仅仅是在底片的有效图形区域有差异,在有效图形区域外是完全相同的,所以为了便于解释说明,在下述实施例中,解释说明都以一块底片为例。

如图1所示,一种电路板曝光对位的工具,包括至少两张底片200,每张所述底片200至少固定有一组直角定位边条100,所述直角定位边条100固定在所述底片的有效图形区域220外,且所述直角定位边条100固定在每张所述底片200上的位置相同;

每组所述直角定位边条100都包括第一边条120和第二边条140,所述第一边条120和所述第二边条140分别与所述底片200相邻的两边平行。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州杰赛科技股份有限公司,未经广州杰赛科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220742534.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top