[实用新型]一种腔体耦合器介质定位装置有效
| 申请号： | 201220742875.5 | 申请日： | 2012-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN203026631U | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 王多敏 | 申请（专利权）人： | 合肥威科电子技术有限公司 |
| 主分类号： | H01P5/18 | 分类号： | H01P5/18 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所 34115 | 代理人： | 金凯 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 耦合器 介质 定位 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种腔体耦合器介质定位装置，其特征在于：它是固定于腔体耦合器的腔体内壁上的定位装置，所述的定位装置的一端面上设置有两个导带卡槽，两个导带卡槽之间的距离为腔体内两个导带之间的定位距离。
2.根据权利要求1所述的一种腔体耦合器介质定位装置，其特征在于：所述的导带卡槽设置于定位装置的上端面或下端面上。
3.根据权利要求1所述的一种腔体耦合器介质定位装置，其特征在于：所述的定位装置为条形定位装置，条形定位装置的两端固定于腔体耦合器的腔体内壁上。
4.根据权利要求1所述的一种腔体耦合器介质定位装置，其特征在于：所述的腔体耦合器的腔体内壁上设置有两个定位装置，每个定位装置上均设置有两个导带卡槽。
5.根据权利要求1或3所述的一种腔体耦合器介质定位装置，其特征在于：所述的腔体耦合器的腔体内壁上设置有多个定位凹槽，所述的定位装置的端部固定于对应的定位凹槽内。
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