[实用新型]双面研磨机有效
申请号: | 201220744118.1 | 申请日: | 2012-12-29 |
公开(公告)号: | CN203077071U | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | 卢玉席 | 申请(专利权)人: | 铜陵市方远电子科技有限公司 |
主分类号: | B24B37/08 | 分类号: | B24B37/08 |
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地址: | 244000 安徽省铜陵*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 双面 研磨机 | ||
技术领域
本实用新型涉及升降装置技术领域,具体属于双面研磨机。
背景技术
石英晶片是制造频率发生和控制用的电子元器件,石英晶片的厚度同频率成反比,石英晶体经过切割后的晶体片,要根据晶体的设计要求,一道一道研磨至固定厚度。现有的研磨装置设计结构不合理,研磨过程中晶片厚度不易控制,晶体平行度和平整度不高。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供了双面研磨机,克服了现有技术的不足,设计简单,结构合理,设计上研磨盘和下研磨盘转动方向相反,能同时研磨两个面,提高工作效率,晶体平行度和平整度高,便于清洗,提高产品品质。
本实用新型采用的技术方案如下:
双面研磨机,包括上研磨盘、下研磨盘、固定架、转动盘和电机,所述的下研磨盘设置于固定架上,固定架中间位置设有主轴,上研磨盘设于下研磨盘上,下研磨盘和固定架之间设有研磨液连接管,转动盘设置于固定架下端主轴上,转动盘下端设有齿轮盘,齿轮盘与电机前端的主动齿轮啮合,上研磨盘上连接有电机。
所述的转动盘下端设有弹簧。
与已有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
本实用新型设计上研磨盘和下研磨盘转动方向相反,能同时研磨两个面,提高工作效率,同时转动盘下端设有弹簧,可以缓解研磨时阻力过大损伤晶体;晶体平行度和平整度高,便于清洗,提高产品品质。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
参见附图,双面研磨机,包括上研磨盘1、下研磨盘2、固定架3、转动盘4和电机5,下研磨盘2设置于固定架3上,固定架3中间位置设有主轴6,上研磨盘1设于下研磨盘2上,下研磨盘2和固定架3之间设有研磨液连接管7,转动盘4设置于固定架3下端主轴6上,转动盘4下端设有齿轮盘401,齿轮盘401与电机5前端的主动齿轮8啮合,上研磨盘1上连接有电机5,转动盘4下端设有弹簧9。
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