[实用新型]晶圆清洗刷和晶圆清洗装置有效
申请号: | 201220748957.0 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN203018351U | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 唐强;汪坚俊;施成;李佩;马智勇 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | B08B1/04 | 分类号: | B08B1/04;B08B3/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶圆清 洗刷 清洗 装置 | ||
1.一种晶圆清洗刷,其特征在于,包括弹性刷筒、弹性刷头以及刷轴,所述弹性刷筒套设于所述刷轴的外侧,所述弹性刷筒的内、外圆周表面分别设有若干所述弹性刷头。
2.根据权利要求1所述晶圆清洗刷,其特征在于,所述弹性刷头呈圆柱状,所述弹性刷头均匀分布于所述弹性刷筒的内、外圆周表面。
3.根据权利要求1所述晶圆清洗刷,其特征在于,所述弹性刷头呈条状,所述弹性刷头呈螺旋状均匀分布于所述弹性刷筒的内、外圆周表面。
4.根据权利要求1所述晶圆清洗刷,其特征在于,所述弹性刷筒的长度比晶圆的直径长至少6cm。
5.一种晶圆清洗装置,其特征在于,包括一对如权利要求1~4中任意一项所述的晶圆清洗刷,所述晶圆清洗刷分别压在所述晶圆的正反表面并对晶圆进行滚动刷洗。
6.根据权利要求5所述晶圆清洗装置,其特征在于,所述晶圆清洗装置还包括两排设有若干晶圆清洗喷嘴的第一喷水管,所述第一喷水管分别设置于所述晶圆正反面的斜上方。
7.根据权利要求5所述晶圆清洗装置,其特征在于,所述晶圆正反面的斜上方还分别设有若干单独控制角度、水压和水量的晶圆清洗活动喷嘴。
8.根据权利要求5所述晶圆清洗装置,其特征在于,所述晶圆清洗装置还包括两排设有若干弹性刷筒清洗喷嘴的第二喷水管,所述第二喷水管分别设置于对应弹性刷筒的斜上方。
9.根据权利要求5所述晶圆清洗装置,其特征在于,所述弹性刷筒的斜上方还设有若干单独控制角度、水压和水量的弹性刷筒清洗活动喷嘴。
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