[发明专利]平面面板显示器用玻璃基板及其制造方法

权利要求书

1.一种形成p-Si-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其由下述玻璃构成，且热收缩率为75ppm以下；

以摩尔%表示，上述玻璃含有

55～80%的SiO₂、

3～20%的Al₂O₃、

3～15%的B₂O₃、及

3～25%的RO，

SiO₂、Al₂O₃及B₂O₃的以摩尔%表示的含有率满足(SiO₂+Al₂O₃)/(B₂O₃)=7.5～17的关系，

所述玻璃的应变点为665℃以上，且失透温度为1250℃以下；

其中，RO是MgO、CaO、SrO及BaO的总量，

上述热收缩率是指使用实施升降温速度为10℃/分、于550℃保持2小时的热处理后的玻璃基板的收缩量，利用下述式所求出的值，

热收缩率(ppm)={热处理后的玻璃基板的收缩量/热处理前的玻璃基板的长度}×10⁶。

2.一种形成p-Si-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其由下述玻璃构成，且热收缩率为60ppm以下；

以摩尔%表示，上述玻璃含有

55～80%的SiO₂、

3～20%的Al₂O₃、

3～15%的B₂O₃、及

3～25%的RO，

SiO₂、Al₂O₃及B₂O₃的以摩尔%表示的含有率满足(SiO₂+Al₂O₃)/(B₂O₃)=8.45～17.0的关系，且所述玻璃的失透温度为1250℃以下；

其中，RO是MgO、CaO、SrO、BaO的总量，

上述热收缩率是指使用实施升降温速度为10℃/分、于550℃保持2小时的热处理后的玻璃基板的收缩量，利用下述式所求出的值，

热收缩率(ppm)={热处理后的玻璃基板的收缩量/热处理前的玻璃基板的长度}×10⁶。

3.如权利要求1或2所述的形成p-Si-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其中以摩尔%表示，上述玻璃含有

0～5%的ZnO，

上述玻璃中，SiO₂及Al₂O₃的以摩尔%表示的含有率满足SiO₂+Al₂O₃≧75%，且RO、ZnO及B₂O₃的以摩尔%表示的含有率满足RO+ZnO+B₂O₃=7～25%。

4.如权利要求1～3任一项所述的形成p-Si-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其中，上述玻璃中，MgO、CaO、SrO及BaO的合计含有率为4～20摩尔%。

5.如权利要求1～4任一项所述的形成p-Si-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其中，上述玻璃中，以摩尔%计，CaO的含有率相对于MgO、CaO、SrO及BaO的合计含有率的比超过0.5。

6.如权利要求1～5任一项所述的形成p-Si-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其中，上述玻璃的液相黏度为10^4.5dPa·s以上，其通过利用下拉法将上述玻璃成形而获得。

7.如权利要求1～6任一项所述的形成p-Si-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其中，上述玻璃实质上不含As₂O₃及Sb₂O₃。

8.如权利要求1～7任一项所述的形成p-Si-TFT的平面面板显示器用玻璃基板，其为液晶显示器用玻璃基板。