[发明专利]13族元素氮化物膜及其叠层体在审
| 申请号： | 201280003037.9 | 申请日： | 2012-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN103237931A | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 岩井真;平尾崇行;吉野隆史 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | C30B29/38 | 分类号： | C30B29/38;C30B19/02;H01L21/208;H01L33/32 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 徐申民;李晓 |
| 地址： | 日本爱知县名古*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 13 元素 氮化物 及其 叠层体 | ||
1.一种13族元素氮化物膜，是在晶种基板上通过助熔剂法从含有助熔剂及13族元素的熔液于含氮氛围下育成的13族元素氮化物膜，其特征在于，
所述13族元素氮化物膜含有夹杂物分布层和夹杂物缺乏层，所述夹杂物分布层被设置于自所述13族元素氮化物膜的所述晶种基板侧的界面起50μm以下的区域，且分布有源自所述熔液的成分的夹杂物，所述夹杂物缺乏层被设置于该夹杂物分布层上。
2.根据权利要求1所述的13族元素氮化物膜，其特征在于，沿着所述13族元素氮化物膜的横截面观察时，所述夹杂物分布层中的所述夹杂物的最大面积在60μm2以下。
3.根据权利要求1或2所述的13族元素氮化物膜，其特征在于，所述13族元素氮化物为氮化镓、氮化铝或氮化铝镓。
4.根据权利要求3所述的13族元素氮化物膜，其特征在于，所述13族元素氮化物中含有锗、硅、氧中的至少1个，显示为n型。
5.根据权利要求1～4的任意一项所述的13族元素氮化物膜，其特征在于，所述晶种基板具备单晶基板及设置于该单晶基板上的晶种膜。
6.根据权利要求1～5的任意一项所述的13族元素氮化物膜，其特征在于，以所述夹杂物分布层的厚度为1时，所述夹杂物缺乏层的厚度为20～0.1。
7.一种13族元素氮化物膜，从权利要求1～6的任意一项所述的13族元素氮化物膜除去所述夹杂物分布层而得到。
8.一种叠层体，其特征在于，具备单晶基板、设置于该单晶基板上的晶种膜以及设置于该晶种膜上的权利要求1～6的任意一项所述的13族元素氮化物膜。
9.一种叠层体，其特征在于，具备晶种膜以及设置于该晶种膜上的权利要求1～6的任意一项所述的13族元素氮化物膜。
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