[发明专利]反射防止膜、光学系统和光学设备

权利要求书

1.一种反射防止膜，其特征在于，

所述反射防止膜具有交替层叠折射率nH为1.95～2.32的高折射率物质和折射率nL为1.35～1.46的低折射率物质而得到的12层的层叠体，

波长范围400nm～680nm的反射率为1.5%以下，并且，波长范围680nm～1350nm的反射率为2.0%以下。

2.根据权利要求1所述的反射防止膜，其特征在于，

从形成所述层叠体的基板侧起依次是，第1、第3、第5、第7、第9和第11层为高折射率层，第2、第4、第6、第8、第10和第12层为低折射率层，

在所述层叠体的各层中，折射率与物理膜厚d之积即光学膜厚满足以下各式：

第1层  0.11<nHd<0.25

第2层  0.33<nLd<0.72

第3层  0.33<nHd<0.60

第4层  0.23<nLd<0.54

第5层  0.63<nHd<0.88

第6层  0.08<nLd<0.22

第7层  1.23<nHd<2.29

第8层  0.06<nLd<0.15

第9层  0.59<nHd<0.94

第10层 0.34<nLd<0.44

第11层 0.23<nHd<0.42

第12层 1.15<nLd<1.27。

3.根据权利要求1所述的反射防止膜，其特征在于，

所述高折射率物质是TiO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、HfO₂、或它们与La、Zr的混合物，所述低折射率物质是SiO₂、MgF₂、或它们的混合物。

4.根据权利要求1所述的反射防止膜，其特征在于，

所述基板的折射率在1.48～1.8的范围内。

5.一种光学系统，其特征在于，所述光学系统具有2张以上形成有权利要求1～4中的任意一项所述的反射防止膜的所述基板。

6.一种光学设备，其特征在于，所述光学设备具有权利要求5所述的光学系统。