[发明专利]用于在复杂图案化结构中进行测量的方法和系统有效
申请号: | 201280004552.9 | 申请日: | 2012-01-03 |
公开(公告)号: | CN103890542B | 公开(公告)日: | 2017-09-08 |
发明(设计)人: | 博亚兹·布里尔;鲍里斯·舍曼 | 申请(专利权)人: | 诺威量测设备股份有限公司 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24;G01N21/47 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人: | 余刚,梁韬 |
地址: | 以色列*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 复杂 图案 结构 进行 测量 方法 系统 | ||
1.一种用于在复杂图案化结构中进行测量的方法,所述方法包括:
为图案化结构中的相同测量部位提供完整模型和至少一个近似模型,其中,所述至少一个近似模型中的每个是由参数集定义的,所述完整模型包括所述至少一个近似模型的所述参数集以及额外参数,其中,所述参数集包括所述图案化结构的参数和/或来自所述图案化结构的响应的参数/条件;所述至少一个近似模型满足所述完整模型和所述近似模型之间的关系通过预定函数定义的条件;
为通过所述近似模型对所述近似模型的整个参数空间计算出的模拟数据创建库;
确定通过所述完整模型计算出的对应于所述近似模型的所述参数空间的选择点的稀疏模拟数据;
利用所述近似模型的所述模拟数据的所述库和所述完整模型的所述稀疏模拟数据,并且创建对应于所述近似模型的所述参数空间的校正项的值的库,所述校正项被确定为所述完整模型和所述近似模型之间的关系的所述预定函数,由此能够通过将测量数据拟合到通过所述校正项的相应值校正的、所述近似模型计算出的模拟数据来处理所述测量数据。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,定义所述完整模型和所述近似模型之间的关系的所述预定函数是光滑函数。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,定义所述完整模型和所述近似模型之间的关系的所述预定函数是线性函数。
4.根据权利要求1所述的方法,其中,定义所述完整模型和所述近似模型之间的关系的所述预定函数是所述完整模型的值和所述近似模型的值之间的差。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,为所述近似模型的所述参数空间中的所述校正项值创建库包括:使用所述近似模型的整个参数空间的所述模拟数据的所述库和所述完整模型的所述稀疏模拟数据并且计算所述参数空间的所述选择点的所述校正项的值;利用定义所述完整模型和所述近似模型之间的关系的所述预定函数并且计算所述近似模型的整个参数空间的所述校正项的值。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其中,所述近似模型和所述完整模型包括表征在测量下的所述结构的参数。
7.根据权利要求6所述的方法,其中,所述近似模型被配置用于通过具有更短周期的图案的结构近似具有不同周期的两个以上的图案的复杂图案化结构。
8.根据权利要求6所述的方法,其中,所述近似模型被配置用于通过省略了至少一个下部未图案化层的结构近似具有包括顶部图案化层的多个层的复杂图案化结构。
9.根据权利要求6所述的方法,其中,所述近似模型被配置用于通过具有减小的单元格的结构近似复杂图案化结构。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述减小的单元格具有与要测量的所述复杂图案化结构中的单元格的元件相似的均匀排列的元件。
11.根据权利要求9所述的方法,其中,所述减小的单元格具有比要测量的复杂结构中的相应单元格小的尺寸。
12.根据权利要求6所述的方法,其中,所述近似模型被配置用于通过具有对称性改善的单元格的结构近似复杂图案化结构。
13.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其中,所述近似模型和所述完整模型包括表征用于获取所述测量数据的测量的参数。
14.根据权利要求13所述的方法,其中,所述测量包括光学测量,所述参数表征光与要测量的所述图案化结构的交互作用。
15.根据权利要求14所述的方法,其中,所述近似模型被配置用于通过使用相对低的光谱设置来近似测量,所述模拟数据通过具有降低的光谱分辨率的近似模型计算,所述校正项对应于更高光谱分辨率的小贡献。
16.根据权利要求14所述的方法,其中,所述近似模型被配置用于通过使用从所述结构收集光的不同数值孔径来近似测量,使得所述近似模型计算的所述模拟数据对应于占所收集光的大部分的最小数的数值孔径,所述校正项对应于非零数值孔径的相对小的贡献。
17.根据权利要求14所述的方法,其中,所述近似模型被配置用于通过使用更低的衍射级数来近似测量,所述校正项对应于更高的衍射模式的小贡献。
18.一种用于在复杂图案化结构中进行测量的系统,所述系统包括:
用于为图案化结构中的相同测量部位提供完整模型和至少一个近似模型的建模工具,其中,所述至少一个近似模型中的每个是由参数集定义的,所述完整模型包括所述至少一个近似模型的所述参数集以及额外参数,其中,所述参数集包括所述图案化结构的参数和/或来自所述图案化结构的响应的参数/条件;其中,所述至少一个近似模型满足所述完整模型和所述近似模型之间的关系通过预定函数定义的条件;
库创建模块,被配置并可操作用于确定和存储通过所述近似模型对所述近似模型的整个参数空间计算出的模拟数据;
完整数据模块,被配置并可操作用于确定和存储通过所述完整模型计算出的对应于所述近似模型的所述参数空间的选择点的稀疏模拟数据;
处理器工具,被配置并可操作用于利用所述近似模型的所述模拟数据的所述库和所述完整模型的所述稀疏模拟数据并且创建对应于所述近似模型的所述参数空间的校正项的值的库,所述校正项被确定为所述完整模型和所述近似模型之间的关系的所述预定函数;
所述系统由此能够通过将测量数据拟合到通过所述近似模型计算并通过所述校正项的相应值校正的所述模拟数据来处理所述测量数据。
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