[发明专利]被成膜基板和有机EL显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及在被成膜基板上进行规定图案的成膜的蒸镀技术的领域。

背景技术

近年来，在各种商品和领域中应用平板显示器，要求平板显示器进一步大型化、高画质化、低耗电化。

在这样的状况下，具备利用有机材料的电场发光（Electroluminescence（电致发光），以下记为“EL”）的有机EL元件的有机EL显示装置，作为全固体型且在低电压驱动、高速响应性、自发光性等方面优异的平板显示器，受到了高度的关注。

有机EL显示装置，例如，具有在设置有TFT（薄膜晶体管）的包括玻璃基板等的基板上设置有与TFT连接的有机EL元件的结构。

有机EL元件是能够通过低电压直流驱动进行高亮度发光的发光元件，具有依次叠层有第一电极、有机EL层和第二电极的结构。其中，第一电极与TFT连接。另外，在第一电极与第二电极之间，作为上述有机EL层，设置有使空穴注入层、空穴输送层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子输送层、电子注入层等叠层而得到的有机层。

全彩色的有机EL显示装置，通常，在基板上排列形成有红色（R）、绿色（G）、蓝色（B）的各颜色的有机EL元件作为子像素，通过使用TFT使这些有机EL元件有选择地以期望的亮度发光来进行图像显示。

在这样的有机EL显示装置的制造中，至少包括发各颜色光的有机发光材料的发光层，按每个作为发光元件的有机EL元件形成图案（例如参照专利文献1、2）。

作为进行发光层的图案形成的方法，例如已知有使用被称为阴影掩模的蒸镀用掩模的真空蒸镀法。

例如，在低分子型有机EL显示器（OLED）中，以往，通过使用阴影掩模的蒸镀法，进行有机膜（有机层）的分涂形成。

在使用阴影掩模的真空蒸镀法中，使用能够对基板的整个蒸镀区域进行蒸镀的尺寸的阴影掩模（密合型整面阴影掩模）。通常，作为阴影掩模，使用与基板同等尺寸的掩模。

图19是表示使用阴影掩模的以往的蒸镀装置的概略结构的截面图。

在使用阴影掩模的真空蒸镀法中，如图19所示，使基板301与蒸镀源302相对配置，在阴影掩模303上设置与蒸镀区域的一部分的图案对应的开口部304，使蒸镀颗粒通过该开口部304蒸镀在基板301上，使得蒸镀颗粒不附着在作为目标的蒸镀区域以外的区域，由此进行图案形成。

基板301配置在未图示的真空腔室内，蒸镀源302固定在基板301的下方。阴影掩模303被密合固定在基板301上，或者在基板301和蒸镀源302被固定在真空腔室的内壁上的状态下相对于基板301相对移动。

例如在专利文献1中公开了：使用负载锁定式的蒸镀源，在进行掩模与基板的位置对准后，从基板的正下方真空蒸镀第一发光材料，形成与掩模的开口部大致相同形状的第一发光部的排列后，移动掩模，从基板的正下方真空蒸镀第二发光材料，形成与掩模的开口部大致相同形状的第二发光部的排列。

例如，在专利文献2中公开了：在与基板同等尺寸的掩模上，在相对于掩模的移动方向交叉的方向上排列小径孔或细长的狭缝孔，在使掩模沿着小径孔或狭缝孔的排列方向移动的同时蒸镀电极材料，由此形成电极图案。

在这样使用阴影掩模的真空蒸镀法中，为了抑制弯曲和变形，阴影掩模被施加张力而固定（例如焊接）在掩模框上。

在使用阴影掩模的真空蒸镀法中，使这样的阴影掩模密合在基板上，使蒸镀颗粒从蒸镀源通过阴影掩模的开口部蒸镀（附着）在基板的期望的位置，由此进行发光层或电极的图案形成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本国公开专利公报“特开2000-188179号公报（（公开日：2000年7月4日）（对应美国专利第6294892号（公告日：2001年9月25日）））”

专利文献2：日本国公开专利公报“特开平10-102237号公报（公开日：1998年4月21日）”

发明内容

发明要解决的技术问题

但是，当基板尺寸变大时，与之相伴，阴影掩模303也大型化。

其结果，由于阴影掩模303的自重弯曲或伸长，在基板301与阴影掩模303之间产生间隙。其结果，不能进行位置精度高的图案形成，发生蒸镀位置偏移或混色，难以高精细化。

另外，伴随基板尺寸的大型化，阴影掩模303和保持其的掩模框巨大化、超重化。其结果，操作这样的阴影掩模303的装置巨大化、复杂化，不仅装置的设计变得困难，而且在制造工序或掩模更换等工序中，也会发生操作的安全性的问题。

因此，利用大型的阴影掩模的大型基板的图案化是极为困难的。