[发明专利]包括萃取的流体处理方法

权利要求书

1.一种流体处理方法，其特征在于，在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面之间形成的薄膜流体中，

将至少1种被萃取物萃取到能够萃取所述被萃取物的至少1种萃取溶剂中。

2.如权利要求1所述的流体处理方法，其特征在于，

使用至少2种流体作为被处理流动体，其中至少1种流体是含有所述至少1种被萃取物的流体，

所述以外的流体中至少其它的1种流体是含有所述至少1种萃取溶剂的萃取用流体，

使作为所述被处理流动体的含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体，在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面之间形成的薄膜流体中进行混合，将所述被萃取物萃取到所述萃取溶剂中。

3.如权利要求2所述的流体处理方法，其特征在于，

含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体中的任一方的被处理流动体一边形成所述薄膜流体一边通过所述处理用面间，

具备与所述任一方的被处理流动体流过的流路独立的另外的导入路，

在所述至少2个处理用面的至少任一方具备至少一个与所述导入路相通的开口部，

将含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体中的任一其它的被处理流动体从所述开口部导入所述处理用面间，

将含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体在所述薄膜流体中混合、将所述被萃取物萃取到所述萃取溶剂中。

4.如权利要求2所述的流体处理方法，其特征在于，

具备：第1处理用部和相对于第1处理用部可接近·分离的第2处理用部的至少2个处理用部、

使所述第1处理用部和第2处理用部相对进行旋转的旋转驱动机构，

在所述第1及第2处理用部中相互对向的位置，设置有第1处理用面及第2处理用面的所述至少2个处理用面，

在所述第1处理用面和第2处理用面之间进行所述的被处理流动体的处理，

在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的所述第1处理用面和所述第2处理用面之间，使所述被处理流动体通过，

所述被处理流动体一边形成所述薄膜流体一边通过所述两处理用面间，由此将所述被萃取物萃取到所述萃取溶剂中。

5.如权利要求4所述的流体处理方法，其特征在于，

具备对所述被处理流动体赋予压力的流体压赋予机构，

所述的第1处理用面和第2处理用面是被所述的被赋予了压力的被处理流动体流过的、构成强制状态的流路的一部分的面，

在所述第1处理用部和第2处理用部中的至少第2处理用部，具备受压面，且该受压面的至少一部分由所述第2处理用面构成，该受压面受到所述流体压赋予机构赋予被处理流动体的压力而产生在使第2处理用面从所述第1处理用面分离的方向移动的力，

在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的所述第1处理用面和所述第2处理用面之间，导入含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体中的任一方的被处理流动体，

具备至少一个与所述任一方被处理流动体流过的流路独立的另外的导入路，

在所述第1处理用面和第2处理用面的至少任一方具备至少一个与所述导入路相通的开口部，

将含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体中的任一其它的被处理流动体从所述开口部导入所述两处理用面间，

被导入所述两处理用面间的这些被处理流动体一边形成所述薄膜流体一边通过所述两处理用面间，将这些被处理流动体混合，由此将所述被萃取物萃取到所述萃取溶剂中。