[发明专利]氧化物烧结体以及溅射标靶有效

专利信息
申请号: 201280005106.X 申请日: 2012-02-09
公开(公告)号: CN103298767A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 金丸守贺;岩崎祐纪;松井实;后藤裕史;南部旭 申请(专利权)人: 株式会社钢臂功科研
主分类号: C04B35/453 分类号: C04B35/453;C04B35/457;C23C14/08;C23C14/34
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 洪秀川
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 氧化物 烧结 以及 溅射
【权利要求书】:

1.一种氧化物烧结体,其是将氧化锌、氧化锡、氧化铟的各粉末混合以及烧结而得到的,其特征在于,

当对所述氧化物烧结体进行X线衍射,

设2θ=34°附近的XRD峰值的强度由A表示,

设2θ=31°附近的XRD峰值的强度由B表示,

设2θ=35°附近的XRD峰值的强度由C表示,

设2θ=26.5°附近的XRD峰值的强度由D表示时,

满足下述式(1):

[A/(A+B+C+D)]×100≥70···(1)。

2.如权利要求1所述的氧化物烧结体,其中,

当设所述氧化物烧结体中所含的金属元素的含量(原子%)分别为[Zn]、[Sn]、[In]时,[In]相对于[Zn]+[Sn]+[In]的比、以及[Zn]相对于[Zn]+[Sn]的比分别满足下式:

[In]/([Zn]+[Sn]+[In])=0.01~0.35

[Zn]/([Zn]+[Sn])=0.60~0.82。

3.如权利要求1或2所述的氧化物烧结体,其中,

所述氧化物烧结体的相对密度为90%以上、电阻率为1Ω·cm以下。

4.一种溅射标靶,其是使用权利要求1~3中任一项所述的氧化物烧结体而得到的溅射标靶,其特征在于,所述溅射标靶的相对密度为90%以上、电阻率为1Ω·cm以下。

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