[发明专利]用于提供超纯水的方法和系统有效
申请号: | 201280005584.0 | 申请日: | 2012-01-16 |
公开(公告)号: | CN103827040A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | B.L.库尔特 | 申请(专利权)人: | 伊沃夸水处理技术有限责任公司 |
主分类号: | C02F1/00 | 分类号: | C02F1/00 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 汤慧华;郑霞 |
地址: | 美国乔*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 提供 超纯水 方法 系统 | ||
1.一种用于处理水的系统,其包括:
初级光化辐射反应器;
过硫酸盐原始化合物源,其被布置成把至少一种过硫酸盐原始化合物引入到所述初级光化辐射反应器中;
总有机碳(TOC)浓度传感器,其位于所述初级光化辐射反应器的上游;
过硫酸盐浓度传感器,其位于所述初级光化辐射反应器的下游;
还原剂源,其被布置成在所述初级光化辐射反应器的下游引入至少一种还原剂;
还原剂浓度传感器,其位于所述至少一种还原剂的添加点的下游;以及
控制器,其操作上被耦合成接收来自所述TOC浓度传感器、所述过硫酸盐浓度传感器和所述还原剂浓度传感器中的至少一个的至少一个输入信号并且生成至少一个控制信号,所述至少一个控制信号调整以下各项之一:过硫酸盐原始化合物被引入到初级光化辐射反应器中的速率、所述初级光化辐射反应器中的光化辐射的强度、以及还原剂被引入到所述系统的速率。
2.权利要求1的系统,其进一步包括位于所述初级光化辐射反应器的上游的反渗透单元。
3.权利要求1的系统,其进一步包括位于所述初级光化辐射反应器的下游的次级光化辐射反应器。
4.权利要求1的系统,其进一步包括位于所述初级光化辐射反应器的下游的微粒过滤器。
5.权利要求1的系统,其进一步包括位于所述初级光化辐射反应器的下游的超滤装置。
6.权利要求1的系统,其进一步包括选自由热交换器、除气器、微粒过滤器、离子净化装置和离子交换柱构成的组中的至少一个单元操作。
7.权利要求6的系统,其中,所述离子交换柱位于所述TOC浓度传感器的上游。
8.权利要求1的系统,其进一步包括位于所述初级光化辐射反应器的上游的水源,其包括选自由反渗透过滤器、电渗析设备、电去电离作用设备、蒸馏装置、离子交换柱及其组合构成的组中的一个或多个单元操作。
9.权利要求8的系统,其中,来自所述水源的水包括小于大约25ppb的TOC。
10.权利要求1的系统,其进一步包括位于所述初级光化辐射反应器的下游的TOC浓度传感器。
11.权利要求1的系统,其中,所述还原剂是二氧化硫。
12.一种处理水的方法,其包括:
提供待处理的水;
测量待处理的水的总有机碳(TOC)值;
部分地基于待处理的水的所测量TOC值的至少一个输入信号来把过硫酸盐阴离子引入至待处理的水;
把含有过硫酸盐阴离子的水引入至初级反应器;
在所述反应器内把水中的过硫酸盐阴离子暴露于紫外光,以产生被照射的水流;
部分地基于选自由待处理的水的TOC值、反应器下游的水的过硫酸盐值和过硫酸盐阴离子的添加速率构成的组中的输入信号的至少一个来调节紫外光的强度;以及
把还原剂引入至被照射的水。
13.权利要求12的方法,其进一步包括在位于所述初级反应器下游的次级反应器内将被照射的水暴露于紫外光。
14.权利要求12的方法,其进一步包括从水中除去溶解的固体和溶解的气体。
15.权利要求12的方法,其进一步包括在把待处理的水提供到反应器容器之前对待处理的水进行处理。
16.权利要求12的方法,其进一步包括测量被照射的水的还原剂值。
17.权利要求16的方法,其进一步包括基于所测量的还原剂值把还原剂引入至被照射的水。
18.权利要求12的方法,其中,所述还原剂是二氧化硫。
19.一种向半导体制作单元提供超纯水的方法,其包括:
提供具有小于大约25ppb的TOC值的进水;
把至少一种自由基原始化合物引入到水中;
把所述至少一种自由基原始化合物转换成至少一种自由基清除物质;
从水中除去任何微粒的至少一部分,以产生超纯水;以及
把超纯水的至少一部分递送到所述半导体制作单元。
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