[发明专利]放电间隙填充用组合物和静电放电保护体有效

专利信息
申请号: 201280006043.X 申请日: 2012-01-30
公开(公告)号: CN103329369A 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 石原吉满;大西美奈;吉田俊辅 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: H01T4/10 分类号: H01T4/10;H05K1/02
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 李照明;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 放电 间隙 填充 组合 静电 保护
【权利要求书】:

1.一种放电间隙填充用组合物,其特征在于,含有金属粉末(A)、粘合剂成分(B)和稀释剂(C),

所述稀释剂(C)的分子内具有2个以上的特性基团,该特性基团彼此在分子内不直接结合,而是介由烃基或硅原子结合。

2.如权利要求1所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,相对于所述金属粉末(A)的含量100质量份,所述粘合剂成分(B)的含量为10~90质量份,所述稀释剂(C)的含量为50~10000质量份。

3.如权利要求1或2所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,所述稀释剂(C)的特性基团为亲水性的特性基团。

4.如权利要求1~3的任一项所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,所述稀释剂(C)的特性基团为含有选自氮原子、氧原子、磷原子、硫原子和卤素原子中的至少一种原子的亲水性特性基团。

5.如权利要求1~4的任一项所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,所述稀释剂(C)的特性基团选自:羟基、2个连接键中的至少1个没与烃基结合的氧基、氧代基、羰基、氨基、亚氨基、卤基、氧化氨基、羟基氨基、肼基、硝基、亚硝基、偶氮基、重氮基、叠氮基、膦基、2个连接键中的至少1个没与烃基结合的硫醚基、氧化硫基、硫代基、以及它们直接结合而成的基团。

6.如权利要求1~4的任一项所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,所述稀释剂(C)的特性基团选自羟基、2个连接键中的至少1个没与烃基结合的氧基、氧代基、羰基、以及它们直接结合而成的基团。

7.如权利要求1~6的任一项所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,所述稀释剂(C)选自双丙甘醇、甘油三乙酸酯、甘油、1,1,3,3-四甲氧基丙烷和1,1,3,3-四乙氧基丙烷中的至少1种。

8.如权利要求1~7的任一项所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,所述金属粉末(A)的一次粒子的表面被由金属氧化物形成的膜覆盖。

9.如权利要求8所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,所述由金属氧化物形成的膜为由下述通式(1)所表示的金属醇盐的水解生成物形成的膜,

式(1)中,M是金属原子,O是氧原子,R分别独立地是碳原子数1~20的烷基,n是1~40的整数。

10.如权利要求9所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,所述通式(1)中M为硅、钛、锆、钽或铪。

11.如权利要求1~10的任一项所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,还含有层状物质(D)。

12.如权利要求8所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,所述由金属氧化物形成的膜为由所述金属粉末(A)中的一次粒子本身形成的自氧化膜。

13.如权利要求1~12的任一项所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,所述金属粉末(A)为选自铜、银、金、锌、铁、钨、锰、铌、锆、铪、钽、钼、钒、镍、钴、铬、镁、钛、铝和它们的合金中的至少1种的金属粉末。

14.如权利要求1~13的任一项所述的放电间隙填充用组合物,其特征在于,所述粘合剂成分(B)含有热固性化合物或活性能量线固化性化合物。

15.一种静电放电保护体,是具有至少2个电极、和所述2个电极间的放电间隙的静电放电保护体,其特征在于,具有通过将权利要求1~14的任一项所述的放电间隙填充用组合物填充到所述放电间隙中而形成的放电间隙填充部件。

16.一种电子电路基板,具有权利要求15所述的静电放电保护体。

17.一种柔性电子电路基板,具有权利要求15所述的静电放电保护体。

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