[发明专利]使用氧化剂在还原条件下进行微生物控制的方法

权利要求书

1.一种控制在含有硼氢化物残留的水系统中的微生物生长的方法，所述方法包括添加醛或醛源到所述水系统中，然后添加氧化剂，所述氧化剂是活性卤素源，以使得在还原条件下提供残留氧化剂水平。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述醛或醛源以足以达到大于-350mV的ORP的量来添加。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述醛或醛源以足以达到大于-300mV的ORP的量来添加。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述醛或醛源以足以达到大于-250mV的ORP的量来添加。

5.根据权利要求1至4中的任何一项所述的方法，其中，所述醛或醛源选自：二羟甲基二甲基乙内酰脲、戊二醛、三嗪、六亚甲基四胺、甲醛、4,4-二甲基恶唑烷、四氢-3,5-二甲基-2H-1,3,5-噻二嗪-2-硫酮、乙二醛、四羟甲基硫酸磷、乙缩醛、和上述物质的混合物。

6.根据权利要求1至5中的任何一项所述的方法，其中，所述活性卤素源选自：元素氯、元素溴、溴氯化物、碱金属次卤酸盐、碱土金属次卤酸盐、结合溴化物的碱金属或碱土金属溴化物、单卤代乙内酰脲、二卤代乙内酰脲、卤化氰尿酸酯、卤化氰脲酸、和上述物质的混合物。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述活性卤素源选自：溴氯乙内酰脲、二溴乙内酰脲、二氯乙内酰脲、和上述物质的混合物。

8.根据权利要求6所述的方法，其中，所述活性卤素源选自：次氯酸钠和次氯酸钠/溴化钠。

9.根据权利要求1至8中的任何一项所述的方法，其中，所述活性卤素源与包含至少一种卤素稳定化合物的溶液或组合物结合。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述至少一种卤素稳定化合物为N-氢化合物，该N-氢化合物选自：对位-甲苯磺酰胺、5,5-二烷基乙内酰脲、甲磺酰胺、巴比土酸、5-甲基尿嘧啶、咪唑啉、吡咯烷酮、吗啉、乙酰苯胺、乙酰胺、N-乙基乙酰胺、邻苯二甲酰亚胺、苯并酰胺、丁二酰亚胺、N-羟甲基脲、N-甲基脲、乙酰脲、脲基甲酸甲酯、氨基甲酸甲酯、邻苯二甲酰肼、吡咯、吲哚、甲酰胺、N-甲基甲酰胺、双氰胺、氨基甲酸乙酯、1,3-二甲基缩二脲、甲基苯基缩二脲、4,4-二甲基-2-恶唑烷酮、6-甲基尿嘧啶、2-咪唑啉酮、亚乙基脲、2-嘧啶酮、氮杂环丁-2-酮、2-吡咯烷酮、己内酰胺、苯基亚磺酰亚胺、苯基亚磺酰亚胺基酰胺、二芳基亚磺酰亚胺、二烷基亚磺酰亚胺、异噻唑啉-1,1-二氧化物、乙内酰脲、甘氨酸、哌啶、哌嗪、乙醇胺、甘氨酰胺、肌酸、甘脲、氨、铵盐、和尿素。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述至少一种卤素稳定化合物选自：卤化铵、硫酸铵、硫酸氢铵、碳酸氢铵、碳酸铵、氨基甲酸铵、烷基磺酸铵、烷基硫酸铵、和羧酸铵、以及上述物质的混合物。

12.根据权利要求1至11中的任何一项所述的方法，其中，硼氢化物与醛或醛源的摩尔比为2:1至1:20。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，硼氢化物与醛或醛源的所述摩尔比为1:1至1:15。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，硼氢化物与醛或醛源的所述摩尔比为1:2至1:10。

15.根据权利要求10至14中的任何一项所述的方法，其中，活性卤素与额外的N-氢化合物的摩尔比在20:1至0.1:1的范围内。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，活性卤素与额外的N-氢化合物的所述摩尔比在10:1至0.2:1的范围内。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，活性卤素与额外的N-氢化合物的所述摩尔比在5:1至2:1的范围内。

18.根据权利要求10至17中的任何一项所述的方法，其中，所述包含至少一种卤素稳定化合物的溶液或组合物是具有pH值在3至11的范围内的水溶液。

19.根据权利要求18所述的方法，其中，所述包含至少一种卤素稳定化合物的溶液或组合物是具有pH值在5至10的范围内的水溶液。

20.根据权利要求19所述的方法，其中，所述包含至少一种卤素稳定化合物的溶液或组合物是具有pH值在7至9.5的范围内的水溶液。