[发明专利]镀覆预处理溶液及使用所述镀覆预处理溶液制造硬盘设备用的铝衬底的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀覆预处理溶液，所述镀覆预处理溶液被用于预处理将被应用到硬盘设备用的铝衬底上的化学镀镍，且涉及使用所述镀覆预处理溶液来制造硬盘设备用的铝衬底的方法。

背景技术

作为制造硬盘设备（HDD）用的磁盘衬底的方法，用于制造磁盘衬底的方法通常是已知的，所述方法包括在将化学镀镍应用到铝衬底之前进行镀覆处理且将化学镀镍应用到已经经历过镀覆预处理的铝衬底上。

在镀覆预处理中，进行清洁处理、蚀刻处理、除污处理及锌酸盐处理。作为锌酸盐处理，包括在第一锌酸盐处理后进行去锌酸盐处理且然后进行第二锌酸盐处理的两次锌酸盐处理是已知的。

当化学镀镍膜的表面具有大量的波纹、称为结节（nodule）的突出物缺陷或称为凹坑（pit）的凹口缺陷时，存在这样的缺陷可能在抛光步骤中不能被完全除去的可能性，且因此可能作为缺陷保留。因此，需要开发一种化学镀覆的方法，所述方法可得到较平滑的镀覆膜表面。

例如，专利文献1描述一种通过在用于除污处理的硝酸浴中包含周期表的第IV族的金属离子使镀覆膜的表面平滑的方法，以得到没有突出物缺陷的镀覆膜表面。

引用列表

专利文献

专利文献1：JP3-236476A(1991)

发明概述

技术问题

本发明的发明人已经进行了集中的研究且发现，当铁离子被添加到用于除污处理或用于两次锌酸盐处理的去锌酸盐处理的硝酸浴中时，将在镀覆膜的表面上容易地产生凹坑（凹口缺陷），尽管结节的产生减少。

考虑到前述内容，已经做出本发明，且本发明的目的是提供一种镀覆预处理溶液，所述镀覆预处理溶液可使铝衬底的表面转变成适合用于化学镀镍的表面，且提供一种使用所述镀覆预处理溶液来制造硬盘设备用的铝衬底的方法。

问题的解决方案

解决前述问题的本发明的处理溶液是一种用于在制造硬盘设备用的铝衬底中的镀覆预处理中使用的镀覆预处理溶液，且特征在于包含0.1g/l-1.0g/l的浓度的铁离子和2.0wt%-12.0wt%的浓度的硝酸。

使用本发明的镀覆预处理溶液用于硬盘设备用的铝衬底的制造方法包括两次锌酸盐处理。在这种情况下，本发明的镀覆预处理溶液可以用于除污处理和去锌酸盐处理两者。可选择地，镀覆预处理溶液可以用于除污处理或去锌酸盐处理中的任一种。本发明不仅可以用于Ni-P镀覆的预处理，而且可以用于包含Ni的镀覆的预处理。例如，本发明可以用于镀覆比如Ni-B、Ni-W、Ni-P-In、Ni-P-Mo、Ni-P-W或Ni-P-B的预处理。

使用本发明的镀覆预处理溶液，极其少量的铁可以沉积在铝衬底的衬底表面上，且在随后的锌酸盐处理中，可以促进从铁开始的锌的均匀沉积，因此可以使镀覆表面平滑。而且，通过控制硝酸浓度以抑制铁的过度沉积并防止铝的腐蚀或因硝酸的腐蚀，抑制凹坑的产生是可能的。

发明的有益效果

根据本发明的镀覆预处理溶液，可以使化学镀镍中的镀覆表面平滑。此外，通过将镀覆预处理溶液中的硝酸溶度控制在2.0-12.0wt%的范围，可以抑制凹坑的产生。

因此，可能的是：使铝衬底的表面转变成适合用于化学镀镍的表面，且在进行化学镀镍时，通过抑制镀覆表面上的波纹、结节及凹坑的产生，得到平滑的镀覆膜的表面。

本说明书包括在日本在先专利申请JP2011-13139的说明书中所公开的主题，该专利申请形成本申请的优先权声明的基础。

实施方式的描述

在下文中，将描述本发明的实施方式。根据这个实施方式的镀覆预处理溶液被用于制造硬盘设备用的磁盘衬底，且被用于在将化学镀镍应用到铝衬底之前进行的镀覆预处理。镀覆预处理溶液不仅可以用于Ni-P镀覆的预处理，而且可以用于包含Ni的镀覆的预处理。例如，可以用于镀覆的预处理，比如Ni-B、Ni-W、Ni-P-In、Ni-P-Mo、Ni-P-W或Ni-P-B的镀覆预处理。

然后，经历镀覆预处理的铝衬底的衬底表面经历化学镀镍，如通常实施的，且然后，化学镀镍膜的表面经历镜面抛光，且进一步地，在其上沉积磁性膜、保护膜及润滑膜，以形成磁盘衬底。

在前述镀覆预处理中，进行（i）清洁处理、（ii）蚀刻处理、（iii）除污处理及（iv）锌酸盐处理。应注意到，水洗处理是在步骤（i）到步骤（iv）的每一个步骤之间实施的。