[发明专利]网纹辊和制造网纹辊有效
| 申请号： | 201280006925.6 | 申请日： | 2012-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN103347694A | 公开（公告）日： | 2013-10-09 |
| 发明（设计）人： | 李东烈;蔡京勳;柳永先;李勇真;卢泳辰;李善荣 | 申请（专利权）人： | LG伊诺特有限公司 |
| 主分类号： | B41F13/11 | 分类号： | B41F13/11;B41N1/06 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 许向彤;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 网纹辊 制造 | ||
1.一种网纹辊，包括：
基辊；
镀铜层，其被设置在所述基辊上，并且在表面上形成有多个凹槽；以及
在所述镀铜层上的镍磷（Ni-P）合金层。
2.根据权利要求1所述的网纹辊，其中，所述磷的含量在10重量百分比至20重量百分比的范围内。
3.根据权利要求1所述的网纹辊，其中，所述磷的含量在15重量百分比至20重量百分比的范围内。
4.根据权利要求1所述的网纹辊，其中，所述Ni-P合金层包括钨（W）。
5.根据权利要求4所述的网纹辊，其中，所述钨的含量在1重量百分比至20重量百分比的范围内。
6.根据权利要求1所述的网纹辊，其中，所述镀铜层具有在50微米至200微米的范围内的厚度。
7.根据权利要求1所述的网纹辊，其中，所述Ni-P合金层具有在1微米至200微米的范围内的厚度。
8.根据权利要求1所述的网纹辊，其中，所述镀铜层在其表面上形成凹凸部分。
9.根据权利要求8所述的网纹辊，其中，所述镀铜层具有在10nm至100nm的范围内的表面粗糙度。
10.根据权利要求8所述的网纹辊，其中，所述镀铜层具有在10nm至45nm的范围内的表面粗糙度。
11.一种制造网纹辊的方法，所述方法包括：
制备基辊；
在所述基辊上形成镀铜层；
在所述镀铜层上形成至少一个凹槽；并且
在所述镀铜层上形成镍磷（Ni-P）合金层。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述Ni-P合金层是通过电镀和化学镀的至少一种来形成的。
13.根据权利要求11所述的方法，进一步包括：在所述镀铜层上形成至少一个凹槽之后在所述镀铜层上形成所述Ni-P合金层之前在所述镀铜层的表面上形成凹凸部分。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述凹凸部分是通过等离子体蚀刻来形成的。
15.根据权利要求13所述的方法，其中，在所述凹凸部分的所述形成中，所述镀铜层具有在10nm至100nm的范围内的表面粗糙度。
16.根据权利要求13所述的方法，其中，在所述凹凸部分的所述形成中，所述镀铜层具有在10nm至45nm的范围内的表面粗糙度。
17.根据权利要求11所述的方法，其中，所述Ni-P合金层中的磷（P）的含量在10重量百分比至20重量百分比的范围内。
18.根据权利要求11所述的方法，其中，在所述Ni-P合金层的所述形成中，所述Ni-P合金层包括钨（W）。
19.根据权利要求18所述的方法，其中，所述钨的含量在1重量百分比至20重量百分比的范围内。
20.根据权利要求11所述的方法，其中，所述镀铜层具有在50微米至200微米的范围内的厚度。
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