[发明专利]荧光体、其制备方法以及发光装置有效
申请号: | 201280007858.X | 申请日: | 2012-02-03 |
公开(公告)号: | CN103347980A | 公开(公告)日: | 2013-10-09 |
发明(设计)人: | 广崎尚登;吉松良;渡边真太郎 | 申请(专利权)人: | 独立行政法人物质·材料研究机构;电气化学工业株式会社 |
主分类号: | C09K11/64 | 分类号: | C09K11/64;C09K11/08;F21S2/00;H01L33/50 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 杨黎峰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 制备 方法 以及 发光 装置 | ||
1.一种荧光体,其用通式:MeaRebSicAldNeOf表示,Me以Sr为必需元素且可以含有选自Na、Li、Mg、Ca、Ba、Sc、Y以及La中的一种以上元素;Re以Eu为必需元素且可以含有选自Mn、Ce、Tb、Yb以及Sm中的一种以上元素,其中,
当将组成比a、b、c、d、e以及f设为a=1-x、b=x、c=(2+2p)×(1-y)、d=(2+2p)×y、e=(1+4p)×(1-z)、f=(1+4p)×z时,
参数p、x、y以及z为1.610<p<1.620、0.005<x<0.300、0.190<y<0.260、0.060<z<0.120。
2.根据权利要求1所述的荧光体,其中,组成比c、d、e以及f为0.230<d/c<0.340、0.060<f/e<0.200。
3.根据权利要求1所述的荧光体,其中,Me仅由Sr组成。
4.根据权利要求1所述的荧光体,其中,Re仅由Eu组成。
5.根据权利要求1所述的荧光体,其中,p=1.615。
6.根据权利要求1所述的荧光体,其中,所述荧光体被波长300nm以上至500nm以下的光激发,并在波长495nm以上至530nm以下具有发光峰值波长。
7.根据权利要求1所述的荧光体,其中,所述荧光体是用(Me1-xRexM2X)m(M2X4)n表示的晶体结构模型进行描述,m和n是满足1.610<n/m<1.620的整数值;Me以Sr为必需元素且可以含有选自Na、Li、Mg、Ca、Ba、Sc、Y以及La中的一种以上元素;Re以Eu为必需元素且可以含有选自Mn、Ce、Tb、Yb以及Sm中的一种以上元素;M是选自Si、Ge、Al以及Ga中的一种以上元素;X是选自氧和氮中的一种以上元素。
8.一种荧光体的制备方法,其用于制备权利要求1所述的荧光体,其中,
所述制备方法具有:混合原料的混合工序;以及对混合工序后的混合物进行烧成的烧成工序,
原料包括:
(1)用Me表示的元素的氮化物、碳化物、氢化物、硅化物、碳酸盐或氧化物中的一种或多种,Me以Sr为必需元素且可以含有选自Na、Li、Mg、Ca、Ba、Sc、Y以及La中的一种以上元素;
(2)用Re表示的元素的氮化物、氢化物、碳化物、卤化物或氧化物中的一种或多种,Re以Eu为必需元素且可以含有选自Mn、Ce、Tb、Yb以及Sm中的一种以上元素;
(3)Si氮化物、Si氧化物、Si氮氧化物或Si金属中的一种或多种;
以及(4)Al氮化物、Al氧化物、Al氮氧化物或Al金属中的一种或多种。
9.根据权利要求8所述的荧光体的制备方法,其中,烧成工序是在0.1MPa以上的环境压力下于1600℃以上至2000℃以下进行烧成的工序。
10.根据权利要求8所述的荧光体的制备方法,其中,所述制备方法具有:在1200℃以上至1900℃以下对烧成工序后的荧光体进行退火处理的退火工序。
11.根据权利要求8所述的荧光体的制备方法,其中,在混合工序的原料中,包含由所述烧成工序所得到的荧光体。
12.一种发光装置,其具备:发光元件和权利要求1至7中任意一项所述的荧光体。
13.根据权利要求12所述的发光装置,其中,所述发光装置还具备:发光峰值波长比权利要求1至7中任意一项所述的荧光体的发光峰值波长更长的一种以上的荧光体。
14.根据权利要求12所述的发光装置,其中,所述发光元件是具有340nm以上至500nm以下的发光的无机发光元件或有机发光元件中的任一种。
15.根据权利要求12所述的发光装置,其中,所述发光装置是液晶TV用背光源、投影仪的光源装置、照明装置或信号装置。
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