[发明专利]碳质膜的制造方法、及石墨膜的制造方法、以及辊状高分子膜及辊状碳质膜有效
| 申请号： | 201280008559.8 | 申请日： | 2012-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN103380082A | 公开（公告）日： | 2013-10-30 |
| 发明（设计）人： | 三代真琴;太田雄介;稻田敬;西川泰司 | 申请（专利权）人： | 株式会社钟化 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04;C01B31/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 质膜 制造 方法 石墨 以及 高分子 辊状碳 | ||
1.一种碳质膜的制造方法，其特征在于，其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法，在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下，当制成下述辊状高分子膜后进行热处理，所述辊状高分子膜具有高分子膜间的间隙，所述间隙满足下述关系：关于辊状高分子膜全体而算出的、将相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。
2.根据权利要求1所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，所述相邻的高分子膜间的间隙是通过在将该高分子膜卷成辊状时同时卷取衬纸、然后将所述衬纸抽出而形成的。
3.根据权利要求1所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，所述相邻的高分子膜间的间隙是通过将卷到芯上的所述高分子膜与卷绕方向相反地回卷而形成的。
4.根据权利要求1所述的碳质膜的制造方法，其特征在于，所述相邻的高分子膜间的间隙是通过在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下将加热炉内减压而形成的。
5.一种石墨膜的制造方法，其特征在于，对权利要求1～4中任一项所述的碳质膜进行热处理至2400℃以上的温度。
6.一种辊状高分子膜，其特征在于，其是权利要求1～4中任一项所述的碳质膜的制造方法中使用的辊状高分子膜，所述辊状高分子膜具有高分子膜间的间隙，所述间隙满足下述关系：关于辊状高分子膜全体而算出的、将相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。
7.一种辊状高分子膜，其特征在于，其是权利要求5所述的石墨膜的制造方法中使用的辊状高分子膜，所述辊状高分子膜具有高分子膜间的间隙，所述间隙满足下述关系：关于辊状高分子膜全体而算出的、将相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。
8.一种辊状碳质膜，其特征在于，其是权利要求5所述的石墨膜的制造方法中使用的辊状碳质膜，所述辊状碳质膜具有碳质膜间的间隙，所述间隙满足下述关系：关于辊状碳质膜全体而算出的、将相邻的该碳质膜间的间隙的厚度即Ts除以该碳质膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社钟化，未经株式会社钟化许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280008559.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
