[发明专利]被稳定化了的带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物有效
申请号: | 201280008812.X | 申请日: | 2012-02-02 |
公开(公告)号: | CN103370303A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 西村宪人;万谷慎一 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | C07C263/18 | 分类号: | C07C263/18;C07C265/04 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 段承恩;田欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 稳定 氰酸 不饱和 化合物 | ||
技术领域
本发明涉及被稳定化了的带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物,更详细地说,涉及包含该化合物的稳定化组合物以及制造该化合物的方法。
背景技术
烯属不饱和化合物由于通过热、光和其它因素而极其易于聚合,因此在烯属不饱和化合物的制造工序和精制工序中,经常由于聚合而产生固体物质,成为制造设备的故障的原因。该固体物质如果附着于烯属不饱和化合物的制造工序和精制工序中的制造罐、蒸馏塔和配管等,则不仅发生由固体物质引起的闭塞和移动设备的粘着等,而且对烯属不饱和化合物的制造和精制也带来障碍。而且附着于相关设备内的固体物质的除去,一般而言,由于为通过人力来进行的操作,因此操作效率差,其结果是不可避免长期的运转停止,经济损失大。此外,也成为制品品质降低的原因。
此外,作为烯属不饱和化合物的聚合防止方法,各种固体阻聚剂的添加有效果是公知的,但仅此而已还是不充分的,提出或实施了大量除此以外的聚合防止方法。
例如,提出了在粗(甲基)丙烯酸酯的低沸杂质蒸馏除去工序中,在(甲基)丙烯酸酯中添加迈克尔加成有醇或迈克尔加成有(甲基)丙烯酸的化合物的方法(专利文献1)。然而,在该方法中,在使用醇的迈克尔加成体的情况下,由于通过加热而迈克尔加成部的醇脱离而(甲基)丙烯酰基再生,因此效果弱,此外在使用迈克尔加成有(甲基)丙烯酸的化合物的情况下,仍然存在具有聚合性的(甲基)丙烯酰基,因此从聚合防止的观点出发,没有效果。进一步,添加这样的结构不同的各种杂质,在使用该制品而制成二次制品(树脂成型物、涂层、光学材料等)时带来功能上的不良影响,因此不优选。
由以上可知,强烈期望烯属不饱和化合物的更有效果的聚合防止方法的出现。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平9-301921号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明的课题是鉴于上述以往技术的问题,防止分子内具有异氰酸酯基的烯属不饱和化合物的聚合而使稳定性提高。
用于解决课题的方法
本发明人等为了解决上述课题而进行深入研究,结果发现,通过使特定的稳定剂包含在带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物中,从而使带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物稳定化,由此完成本发明。本发明例如包括以下的事项。
[1]一种带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物的稳定化组合物,其特征在于,含有:分子中包含异氰酸酯基和烯属不饱和基各一个以上的带异氰酸酯基的烯属不饱和化合物(A)、和稳定剂(B),并且该稳定剂(B)为该化合物(A)的烯属不饱和基部位中的至少一个被置换成可以具有取代基的烷基的化合物。
[2]根据项[1]所述的稳定化组合物,上述化合物(A)为包含一个以上的下述式(1)所示的烯属不饱和基的化合物,并且上述稳定剂(B)为该化合物(A)的该式(1)所示的烯属不饱和基部位中的至少一个被置换成下述式(2)或式(3)所示的结构的化合物,
-CR1=CR2R3 (1)
(式中,R1~R3各自独立地表示氢原子、碳原子数1~4的烷基或芳香族基。)
-CR4R5-CR6R7R8 (2)
(式中,R4~R8各自独立地表示氢原子、碳原子数1~4的烷基或芳香族基。)
-CR9R10R11 (3)
(式中,R9~R11各自独立地表示氢原子或芳香族基。)。
[3]根据项[1]或[2]所述的稳定化组合物,以0.005质量%~5质量%的量含有上述稳定剂(B)。
[4]根据项[1]~[3]的任一项所述的稳定化组合物,上述化合物(A)为包含一个以上的下述式(4)所示的基团的化合物,
-O-(CO)-CR1=CR2R3 (4)
(式中,R1~R3各自独立地表示氢原子、碳原子数1~4的烷基或芳香族基。)。
[5]根据项[1]~[4]的任一项所述的稳定化组合物,上述化合物(A)为下述式(5)所示的化合物,
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