[发明专利]充电构件、其生产方法、处理盒和电子照相设备

说明书

技术领域

本发明涉及用于电子照相设备的接触充电的充电构件、并涉及处理盒和电子照相设备。 

背景技术

目前，接触充电方法作为使电子照相感光构件的表面静电充电的一种方法已投入实际使用。接触充电方法为其中将电压施加到与电子照相感光构件接触配置的充电构件，从而在充电构件和电子照相感光构件之间的接触部及其附近引起微小放电以使电子照相感光构件的表面静电充电的方法。 

在接触充电方法中，为了改善对电子照相感光构件的充电效率和均匀充电性，需要充分和均匀地确保电子照相感光构件和充电构件之间的接触辊隙。为了该需要，常规地提出了具有基体和设置于基体上的导电性弹性层的充电构件。然而，该导电性弹性层通常包含相对大量的低分子量组分，因此该低分子量组分可渗出从而污染电子照相感光构件和充电构件。因此，为了防止低分子量组分渗出，有时在导电性弹性层上设置表面层。 

已沉积于电子照相感光构件用清洁构件上的调色剂、外部添加剂、放电生成物和纸粉还可滑过那里从而污染与电子照相感光构件保持接触的充电构件。结果，产生非均匀充电从而引起纵向条纹图像。 

专利文献1公开使导电性填料分散于通过溶胶-凝胶法形成的有机-无机混杂膜并且这使得膜具有更大的对水的接触角从而改善其对调色剂的脱模性。 

引文列表 

专利文献 

专利文献1:日本专利特开2002-080785号公报 

发明内容

发明要解决的问题

近年来，寻求电子照相设备高速化和高寿命化，并且存在调色剂、外部添加剂、放电生成物和纸粉在充电构件上的量变得更大的趋势。因此，充电构件显示引起非均匀充电从而产生纵向条纹图像的趋势。作为防止任何污染物粘着到充电构件的方式，有效的是使充电构件具有低表面自由能和低摩擦系数。这是因为表面自由能影响对表面上的任何淀积物的亲和性并且影响表面的摩擦系数和对表面上的淀积物的滑动性，因此，它们的降低可防止任何污染物粘着到表面。 

因此，本发明的目的是提供充电构件，其通过使充电构件的表面自由能和摩擦系数降低可防止清洁构件上沉积的污染物粘着充电构件。 

本发明另外的目的是提供有助于形成高品位电子照相图像的处理盒和电子照相设备。 

用于解决问题的方案

根据本发明，提供包括基体、弹性层和表面层的充电构件，该表面层包含具有Si-O-W键并具有由下式(1)表示的结构单元和由下式(2)表示的结构单元的高分子化合物。 

式(1) 

式(2) 

WO_5/2

式(1)中，R₁和R₂各自独立地表示由下式(3)至(6)表示的任意结构。式(3) 

式(4) 

式(5) 

式(6) 

式(3)至(6)中，R₃至R₇、R₁₀至R₁₄、R₁₉、R₂₀、R₂₅和R₂₆各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基；R₈、R₉、R₁₅至R₁₈、R₂₃、R₂₄和R₂₉至R₃₂各自独立地表示氢原子或具有1至4个碳原子的烷基；R₂₁、R₂₂、R₂₇和R₂₈各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷氧基或烷基；n、m、l、q、s和t各自独立地表示1至8的整数，p和r各自独立地表示4至12的整数，且x和y各自独立地表示0或1；且星号*和双星号**各自表示分别与式(1)中的硅原子和氧原子键合的位置。 

根据本发明，还提供生产上述充电构件的方法，所述方法包括以下步骤： 

在弹性层的外周表面上形成涂料的涂膜，所述涂料包含由以下所示式(11)和(12)表示的可水解化合物合成的水解缩合物；和