[发明专利]支承衬底和用于制造半导体芯片的方法有效
申请号: | 201280009171.X | 申请日: | 2012-02-07 |
公开(公告)号: | CN103370779A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | E.K.M.京特;A.普勒斯尔;H.祖尔;T.维特;M.肯普夫;J.邓内马克;B.贝姆;K.珀兹尔迈尔 | 申请(专利权)人: | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/761 | 分类号: | H01L21/761;H01L23/60;H01L25/16;H01L27/15;H01L33/00;H01L27/14;H01L33/64;H01L27/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 胡莉莉;汤春龙 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 支承 衬底 用于 制造 半导体 芯片 方法 | ||
1.一种用于半导体层序列的支承衬底(10),该支承衬底(10)具有第一主面(11)和与第一主面对置的第二主面(12),其中在第一主面(11)与第二主面(12)之间构造有二极管结构(2),该二极管结构(2)使第一主面(11)与第二主面(12)至少针对电压的一个极性电绝缘。
2.根据权利要求1所述的支承衬底,
其中,二极管结构使第一主面与第二主面针对两个极性电绝缘。
3.根据权利要求1或2所述的支承衬底,
其中,二极管结构具有第一二极管(24)和第二二极管(25),其中第一二极管和第二二极管关于所述二极管的导通方向彼此相反地被取向。
4.根据权利要求1至3之一所述的支承衬底,
其中,支承衬底包含半导体材料。
5.根据权利要求1至4之一所述的支承衬底,
其中,二极管结构借助一层一层地掺杂支承衬底来形成。
6.根据权利要求1至5之一所述的支承衬底,
其中,二极管结构具有至少三个相继的层(21,22,23),所述至少三个相继的层(21,22,23)关于所述层的导通类型交替地被构造。
7.一种半导体芯片(3),其具有带有半导体层序列的半导体本体(4)和带有第一主面(11)以及与第一主面对置的第二主面(12)的支承体(1),其中半导体本体被布置在支承体的第一主面上而在第一主面与第二主面之间构造有二极管结构(2),所述二极管结构(2)使第一主面与第二主面至少针对电压的一个极性电绝缘。
8.根据权利要求7所述的半导体芯片,
其中,支承体材料配合地与半导体层序列连接。
9.根据权利要求7或8所述的半导体芯片,
其中,支承体的侧面被配备有钝化层(8)。
10.一种用于制造多个半导体芯片(3)的方法,其具有如下步骤:
a)提供带有第一主面(11)和与第一主面对置的第二主面(12)的支承衬底(10);
b)在第一主面与第二主面之间构造二极管结构(2),其中该二极管结构使第一主面与第二主面至少针对电压的一个极性电绝缘,
c)将半导体层序列(400)布置在支承衬底的第一主面上;以及
d)将带有半导体层序列的支承衬底分割成多个半导体芯片。
11.根据权利要求10所述的方法,
其中,步骤b)在步骤d)之前被执行。
12.根据权利要求10所述的方法,
其中,步骤b)在步骤d)之后被执行。
13.根据权利要求10至12之一所述的方法,
其中,二极管结构借助整面地掺杂支承衬底来构造。
14.根据权利要求10至13之一所述的方法,
其中,半导体层序列被沉积在生长衬底上,并且生长衬底在步骤c)之后被去除。
15.根据权利要求10至13之一所述的方法,
其中,半导体层序列在步骤b)中外延地被沉积在支承衬底上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造