[发明专利]氮化物半导体发光元件和LED系统无效
申请号: | 201280010530.3 | 申请日: | 2012-09-12 |
公开(公告)号: | CN103384922A | 公开(公告)日: | 2013-11-06 |
发明(设计)人: | 井上彰;吉田俊治;横川俊哉 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氮化物 半导体 发光 元件 led 系统 | ||
1.一种氮化物半导体发光元件,其具有发光层,该氮化物半导体发光元件的特征在于:
所述发光层包含主面为m面的InxGa1-xN阱层,其中0<x≤1,
所述InxGa1-xN阱层中的In组成比x的深度方向分布具有多个峰,
所述多个峰中的各个峰的所述In组成比x的值不同。
2.如权利要求1所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:
在所述发光层发出的光的波长的温度系数在243K至353K之间的任一温度为0,243K时的波长和353K时的波长中较短的一方与温度系数为0的温度的波长的差为2nm以下。
3.如权利要求1所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:
在所述发光层发出的光的波长的温度系数在233K至393K之间的任一温度为0,233K时的波长和393K时的波长中较短的一方与温度系数为0的温度的波长的差为5nm以下。
4.如权利要求1至3中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:
所述InxGa1-xN阱层中的In组成比x的平均值为0.08以上0.40以下。
5.如权利要求1至4中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:
所述多个峰中相邻的两个峰之间的区域的In组成比x的最小值,与所述相邻的两个峰中In组成比x的值较大的一方的值的In组成比x的差为0.005以上,0.04以下。
6.如权利要求1至5中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:
还包括分别设置于所述发光层的主面侧和背面侧的p型层和n型层,
所述多个峰为三个以上,所述三个以上的峰的In组成比x的值,从所述p型层向所述n型层的方向去变小,或者变大。
7.如权利要求1至5中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:
还包括分别设置于所述发光层的主面侧和背面侧的p型层和n型层,
所述多个峰为四个以上,所述四个以上的峰的In组成比x的值,从所述p型层向所述n型层的方向去呈V字形或者呈倒V字形。
8.如权利要求1至7中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:
所述InxGa1-xN阱层的厚度为7nm以上。
9.如权利要求1至8中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:
令所述InxGa1-xN阱层的厚度为W,所述氮化物半导体发光元件的动作电流值为I,俯视所述氮化物半导体发光元件时的InxGa1-xN阱层的面积为S_well,所述动作电流值I除以所述面积S_well而得的值为电流密度J时,以W为7nm以上且满足以下的关系式的状态进行动作:
[数学式27]
10.42×W[nm]-81.3≤J[A/cm2]≤10.42×W[nm)-61.3,
其中,电流密度J的单位为A/cm2。
10.如权利要求1至9中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:
在所述发光层发出的光的波长的温度系数的绝对值为0.03以下。
11.如权利要求1至8中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:
令所述InxGa1-xN阱层的厚度为W,所述氮化物半导体发光元件的动作电流值为I,俯视所述氮化物半导体发光元件时的InxGa1-xN阱层的面积为S_well,所述动作电流值I除以所述面积S_well而得的值为电流密度J时,以W为7nm以上且满足以下的关系式的状态进行动作:
[数学式28]
J[A/cm2]<10.42×W[nm]-71.3,
其中,电流密度J的单位为A/cm2。
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