[发明专利]氮化物半导体发光元件和LED系统无效

专利信息
申请号: 201280010530.3 申请日: 2012-09-12
公开(公告)号: CN103384922A 公开(公告)日: 2013-11-06
发明(设计)人: 井上彰;吉田俊治;横川俊哉 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 氮化物 半导体 发光 元件 led 系统
【权利要求书】:

1.一种氮化物半导体发光元件,其具有发光层,该氮化物半导体发光元件的特征在于:

所述发光层包含主面为m面的InxGa1-xN阱层,其中0<x≤1,

所述InxGa1-xN阱层中的In组成比x的深度方向分布具有多个峰,

所述多个峰中的各个峰的所述In组成比x的值不同。

2.如权利要求1所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:

在所述发光层发出的光的波长的温度系数在243K至353K之间的任一温度为0,243K时的波长和353K时的波长中较短的一方与温度系数为0的温度的波长的差为2nm以下。

3.如权利要求1所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:

在所述发光层发出的光的波长的温度系数在233K至393K之间的任一温度为0,233K时的波长和393K时的波长中较短的一方与温度系数为0的温度的波长的差为5nm以下。

4.如权利要求1至3中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:

所述InxGa1-xN阱层中的In组成比x的平均值为0.08以上0.40以下。

5.如权利要求1至4中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:

所述多个峰中相邻的两个峰之间的区域的In组成比x的最小值,与所述相邻的两个峰中In组成比x的值较大的一方的值的In组成比x的差为0.005以上,0.04以下。

6.如权利要求1至5中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:

还包括分别设置于所述发光层的主面侧和背面侧的p型层和n型层,

所述多个峰为三个以上,所述三个以上的峰的In组成比x的值,从所述p型层向所述n型层的方向去变小,或者变大。

7.如权利要求1至5中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:

还包括分别设置于所述发光层的主面侧和背面侧的p型层和n型层,

所述多个峰为四个以上,所述四个以上的峰的In组成比x的值,从所述p型层向所述n型层的方向去呈V字形或者呈倒V字形。

8.如权利要求1至7中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:

所述InxGa1-xN阱层的厚度为7nm以上。

9.如权利要求1至8中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:

令所述InxGa1-xN阱层的厚度为W,所述氮化物半导体发光元件的动作电流值为I,俯视所述氮化物半导体发光元件时的InxGa1-xN阱层的面积为S_well,所述动作电流值I除以所述面积S_well而得的值为电流密度J时,以W为7nm以上且满足以下的关系式的状态进行动作:

[数学式27]

10.42×W[nm]-81.3≤J[A/cm2]≤10.42×W[nm)-61.3,

其中,电流密度J的单位为A/cm2

10.如权利要求1至9中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:

在所述发光层发出的光的波长的温度系数的绝对值为0.03以下。

11.如权利要求1至8中任一项所述的氮化物半导体发光元件,其特征在于:

令所述InxGa1-xN阱层的厚度为W,所述氮化物半导体发光元件的动作电流值为I,俯视所述氮化物半导体发光元件时的InxGa1-xN阱层的面积为S_well,所述动作电流值I除以所述面积S_well而得的值为电流密度J时,以W为7nm以上且满足以下的关系式的状态进行动作:

[数学式28]

J[A/cm2]<10.42×W[nm]-71.3,

其中,电流密度J的单位为A/cm2

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