[发明专利]等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置。

背景技术

作为以往的技术，专利文献1公开了一种水中放电装置。该水中放电装置通过在含有气泡的液体中进行放电来使气泡产生自由基等以重整液体。

专利文献1：日本特开2001-9463号公报

发明内容

发明要解决的问题

在这种水中放电装置中，需要对放电容器内的液体导入气体，因此在容器上开出小孔，将该孔作为气体通路。若在放电产生结束后以液体没有从气体通路完全排出的状态进行放置，则水分会蒸发而析出钙等杂质，气体通路会发生堵塞，从而有可能变得无法进行稳定的放电。

因此，本发明的目的在于防止放电产生结束后的气体通路的堵塞，防止由堵塞导致的不稳定放电现象。

用于解决问题的方案

本发明的第一方式所涉及的等离子体发生装置的特征在于，具备：液体容纳部，其容纳含水的液体；气体容纳部，其容纳气体；隔离壁部，其将上述液体容纳部与上述气体容纳部隔开，具有用于将上述气体容纳部的气体引导到上述液体容纳部的气体通路；第一电极，其被配置于上述气体容纳部；第二电极，其被配置成与上述液体容纳部的液体相接触；气体供给部，其以经由上述气体通路向上述液体容纳部加压输送上述气体容纳部的气体的方式，来向上述气体容纳部供给含氧的气体；等离子体电源部，其在上述第一电极与上述第二电极之间施加规定的电压来使上述第一电极与上述第二电极之间产生放电，由此使加压输送到上述液体容纳部的液体内的气体等离子体化；以及排水促进部，其避免在排出上述液体容纳部内的液体之后在上述气体通路中残留液体。

也可以是，上述排水促进部由使上述气体通路的上述液体容纳部侧的开口周缘部比该开口周缘部的周围突出而得到的突起形状部构成。

也可以是，上述气体通路的至少内表面或者上述突起形状部由疏水性部件形成。

也可以是，作为上述排水促进部，上述气体通路的上述液体容纳部侧的至少开口周缘部由亲水性部件形成。

也可以是，利用向上述气体通路喷出空气的空气喷出机构来构成上述排水促进部。

也可以是，利用对上述气体通路施加振动的振动施加机构来构成上述排水促进部。

也可以是，上述空气喷出机构使用从上述气体供给部向上述气体容纳部供给的气体。

也可以是，上述振动施加机构使用上述气体供给部的振动。

本发明的第二方式所涉及的清洗净化装置的特征在于具备上述等离子体发生装置。

发明的效果

本发明的等离子体发生装置具有避免在排出液体容纳部内的液体之后在气体通路中残留液体的排水促进部。通过该排水促进部，在放电产生结束排水之后，在气体通路中不残留液体，因此抑制由于水分的蒸发而钙等杂质析出，从而抑制该气体通路的堵塞。其结果，在本发明的等离子体发生装置中，气体通路不会被杂质堵塞，因此会得到稳定的放电。

另外，通过使清洗净化装置具备上述等离子体发生装置，能够得到稳定的等离子体放电来稳定地得到自由基，能够得到清洗效果高的清洗净化装置。

附图说明

图1是示意性地表示第一实施方式的等离子体发生装置的截面图，(A)是整体图，(B)是气体通路部分的放大图，(C)是气体通路周围残留有液体的状态的气体通路部分的放大图。

图2是示意性地表示用于说明第一实施方式的等离子体发生装置的动作的一个状态的局部放大截面图。

图3是示意性地表示图2所示的状态之后的状态的局部放大截面图。

图4是表示第二实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的其它方式的气体通路部分的放大截面图。

图5是表示第二实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的另一方式的气体通路部分的放大截面图。

图6是表示第三实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的又一方式的气体通路部分的放大截面图。

图7是表示第四实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的又一方式的气体通路部分的放大截面图。

图8是表示第五实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的又一方式的气体通路部分的放大截面图。

图9是表示第六实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的又一方式的气体通路部分的放大截面图。

图10是表示将本实施方式的等离子体发生装置应用于清洗净化装置的例子的立体图。