[发明专利]氧化铝糊及其使用方法

权利要求书

1.可印刷的、经空间稳定的糊用于形成Al₂O₃-涂层和混合的Al₂O₃-混杂层的用途。

2.根据权利要求1的糊的用途，其特征在于，所述糊包含用于形成Al₂O₃和一种或多种元素的氧化物的前体，所述元素选自硼、镓、硅、锗、锌、锡、磷、钛、锆、钇、镍、钴、铁、铈、铌、砷和铅，其中所述糊通过将相应的前体引入到糊中而得到。

3.根据权利要求1或2的糊的用途，其特征在于，所述糊是通过与至少一种疏水性组分和至少一种亲水性组分和任选地与至少一种螯合物形成剂混合而被空间稳定的。

4.根据权利要求3的糊的用途，其特征在于，所述糊包含选自1,3-环己二酮、水杨酸和结构相似的化合物的至少一种疏水性组分，和选自乙酰丙酮、二羟基苯甲酸和三羟基苯甲酸或其结构相似化合物的至少一种亲水性化合物，螯合物形成剂如乙二胺四乙酸（EDTA）、二亚乙基三胺五乙酸（DETPA）、次氨基三乙酸（NTA）、乙二胺四亚甲基膦酸（EDTPA）和二亚乙基三胺五亚甲基膦酸（DETPPA）或结构相似的复合物形成剂或相应的螯合物形成剂。

5.根据权利要求3或4的糊的用途，其特征在于，所述糊包含选自以下的溶剂：低沸点的醇，其优选选自乙醇和异丙醇，和至少一种高沸点的溶剂，其选自高沸点的二醇醚，优选选自二乙二醇单乙基醚、乙二醇单丁基醚和二乙二醇单丁基醚或它们的混合物，以及任选的极性溶剂，其选自丙酮、DMSO、环丁砜和乙酸乙酯或类似的极性溶剂。

6.根据权利要求3、4或5的糊的用途，其特征在于，所述糊具有4-5的酸性pH值，并且包含一种或多种有机酸、优选乙酸作为酸，所述酸导致无残留的干燥。

7.根据权利要求1至6中一项或多项的糊的用途，用于形成致密的、均匀的层，其特征在于，向其中以1:1至1:9、优选1:1.5至1:2.5的水对前体的摩尔比加入水以进行水解，其中固体含量在9至10重量%的范围内。

8.根据权利要求1至7中一项或多项的糊的用途，用于制备扩散阻挡物、印刷的电介质、电子和电气钝化体、防反射涂层、抗磨损的机械保护层、抗氧化或酸作用的化学保护层。

9.根据权利要求1至7中一项或多项的糊的用途，用于制备含有简单和聚合的硼氧化物和磷氧化物以及其烷氧化物用于区域和局部掺杂半导体、优选硅的混杂材料。

10.根据权利要求1至7中一项或多项的糊的用途，用于制备在LCD技术中作为钠和钾扩散阻挡物的Al₂O₃层。

11.在单晶或多晶的硅晶片、蓝宝石晶片、薄层太阳能模块、用功能材料（例如，ITO、FTO、AZO、IZO等）涂覆的玻璃、未涂覆的玻璃、钢元件和合金上以及在其它用于微电子技术中的材料上的纯的、不含残余物的无定形Al₂O₃层的制备方法，其特征在于，在施涂了根据权利要求1至7中一项或多项的糊之后，在300至1000℃、优选300至400℃、特别优选350℃的温度下进行干燥。

12.根据权利要求11的方法，其特征在于，通过在1000℃以上的温度下进行干燥和退火形成具有与刚玉相当性质的硬的结晶层。

13.根据权利要求11的方法，其特征在于，所述干燥在小于5分钟之内进行，其中形成小于100nm的层厚。

14.根据权利要求11的用于制备纯的不含残留物的无定形的可结构化的Al₂O₃-层的方法，其特征在于，在施涂根据权利要求1至7中的一项或多项的糊的薄层之后，在300℃<X<500℃的温度下进行干燥。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，通过在<500℃的温度下对经涂覆的糊的层进行干燥来得到层，该层可用HF、H₃PO₄或有机酸例如乙酸或丙酸以简单的方式进行后结构化。