[发明专利]静电夹具、光刻设备和器件制造方法有效
申请号: | 201280012836.2 | 申请日: | 2012-02-07 |
公开(公告)号: | CN103415812A | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
发明(设计)人: | E·布瑞克霍夫;J·拜克斯;A·斯本;J·戴门 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 夹具 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
1.一种用于将物体保持在支撑台上的静电夹具,所述静电夹具包括:
多层膜,所述多层膜包括限定在导电层中的电极,所述导电层定位在电绝缘层之间。
2.根据权利要求1所述的静电夹具,其中所述电绝缘层由聚合物材料或塑料材料制造。
3.根据权利要求2所述的静电夹具,其中所述电绝缘层由聚酰亚胺制造,优选地是由聚(4,4'-氧乙烯-均苯四酰亚胺)制造。
4.根据前述权利要求中任一项所述的静电夹具,其中所述电绝缘层由杨氏模量等于或小于10GPa的材料形成,优选地杨氏模量等于或小于5GPa。
5.根据前述权利要求中任一项所述的静电夹具,其中所述膜的厚度为150μm或更小。
6.根据前述权利要求中任一项所述的静电夹具,其中所述膜的厚度在20至50μm之间。
7.根据前述权利要求中任一项所述的静电夹具,其中所述膜的厚度在25至125μm之间。
8.根据前述权利要求中任一项所述的静电夹具,其中所述多层膜包括细长部分,所述细长部分包括用于将电极电连接至远离所述静电夹具的电压源的电连接,所述电连接是导电层的一体部分,并且通过为所述电绝缘层的一体部分的绝缘体电绝缘。
9.根据前述权利要求中任一项所述的静电夹具,其中所述导电层是溅射层。
10.根据前述权利要求中任一项所述的静电夹具,其中所述电绝缘层中的至少一个是旋涂层。
11.根据前述权利要求中任一项所述的静电夹具,还包括芯体构件,所述多层膜能够通过施加电势差而保持在芯体构件上。
12.根据权利要求11所述的静电夹具,其中所述芯体构件是导电构件并且在所述电极和芯体构件之间的电势差的施加导致了在所述芯体构件和所述电极之间的静电吸引力。
13.根据权利要求11或12所述的静电夹具,其中所述芯体构件具有限定在其中的通道,所述通道用于热调节液体从其中通过。
14.根据权利要求11-13中任一项所述的静电夹具,其中所述芯体构件具有限定在其中的多个通道,所述多个通道用于在所述物体和所述多层膜之间引导的气体从其中通过。
15.根据权利要求11-14中任一项所述的静电夹具,其中所述芯体构件包括具有多个突起的表面。
16.根据权利要求15所述的静电夹具,其中所述多层膜包括多个通孔,使得所述多层膜能够定位在所述表面上,且所述突起延伸通过所述通孔。
17.根据前述权利要求中任一项所述的静电夹具,还包括另外的多层膜,所述另外的多层膜包括限定在电绝缘层之间的导电层中的电极。
18.一种光刻投影设备,包括用于保持物体的支撑台和用于将物体保持在支撑台上的根据前述权利要求中任一项所述的静电夹具。
19.根据权利要求17所述的光刻设备,其中所述物体是衬底。
20.根据权利要求16所述的光刻设备,其中所述物体是掩模。
21.一种器件制造方法,包括以下步骤:
使用掩模将图案赋予投影束和将图案化的投影束投影到衬底上,其中所述掩模被掩模台保持,并且所述衬底被衬底台保持,其中所述掩模和衬底中的至少一个被通过横跨多层膜的电绝缘层施加电势差而保持至它们各自的台,所述多层膜包括限定在定位在电绝缘层一侧的导电层中的电极和定位在所述导电层的另一侧的另一电绝缘层。
22.一种用于光刻设备的部件,所述部件包括在所述部件的表面上的多层膜,所述多层膜包括导电层和电绝缘层,在所述导电层中限定了导电路径,所述电绝缘层在导电层的任一侧由此将导电路径电绝缘。
23.根据权利要求22所述的部件,其中所述导电路径形成加热器。
24.根据权利要求22或23所述的部件,其中所述导电路径形成传感器。
25.根据权利要求22-24中任一项所述的部件,其中所述多层膜粘附至所述表面。
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