[发明专利]用于组织处理的装置与方法

权利要求书

1.一种用于治疗患者的系统，其包含：

包含远端部的细长管；

放置于该细长管的远端部上的处理元件；

其中所述处理元件被构建并布置用于处理靶组织并且减少对非靶组织的不利影响，并且其中所述靶组织包括位于胃肠道中自幽门跨越至特赖茨韧带的组织，并且所述非靶组织包含肝胰管壶腹和奥狄括约肌中的至少一个；以及

组织扩张装置，其包括多于一个的针头，所述针头被布置和配置成向粘膜下层组织内递送流体来周向扩张所述粘膜下层组织，以便增加靶处理体积来用于所述处理元件的处理。

2.如权利要求1所述的系统，其中所述系统不包含慢性植入物。

3.如权利要求1所述的系统，其中所述系统被构建并布置用于处理十二指肠粘膜，使得替代所处理的粘膜的粘膜组织与处理前的粘膜不同地行使功能。

4.如权利要求3所述的系统，其中不同的功能包括不同的分泌、不同的分泌量和/或不同的吸收特性。

5.如权利要求1所述的系统，其中所述靶组织包含第一靶组织部分和第二靶组织部分，且其中所述系统被构建并布置用于执行第一处理以处理所述第一靶组织部分及执行第二处理以处理所述第二靶组织部分。

6.如权利要求5所述的系统，其中所述第一靶组织部分与所述第二靶组织部分重叠。

7.如权利要求5所述的系统，其中所述第一处理与所述第二处理不相似。

8.如权利要求1所述的系统，其中所述靶组织的处理包括选自下组的细胞修正：改变的细胞功能；细胞死亡；细胞凋亡；即时细胞死亡；细胞坏死；细胞变性；细胞的移除；及其组合。

9.如权利要求1所述的系统，其中所述靶组织包含处理组织，该处理组织包含对其处理导致期望的处理效果的组织。

10.如权利要求9所述的系统，其中所述靶组织进一步包含组织的安全余裕，该组织的安全余裕包含靠近所述处理组织的组织，其中所述组织的安全余裕受到所述组织处理的最小影响。

11.如权利要求10所述的系统，其中所述处理组织包含粘膜层，且其中所述组织的安全余裕包含粘膜下层的至少一部分层。

12.如权利要求1所述的系统，其中所述靶组织包括深度、长度和宽度，并且其中所述深度沿长度和/或宽度而变化。

13.如权利要求12所述的系统，其中该系统被构建并布置用于在第一处理步骤和第二处理步骤中处理靶组织。

14.如权利要求13所述的系统，其中所述第一处理步骤和所述第二处理步骤包括不同的能量递送。

15.如权利要求1所述的系统，其中所述靶组织包含第一组织部分和第二组织部分，并且其中该系统被构建并布置用于顺序地处理所述第一组织部分和所述第二组织部分。

16.如权利要求15的系统，其中所述第一组织部分与所述第二组织部分具有不同的特征。

17.如权利要求16所述的系统，其中所述不同的特征包括一个或多个组织类型。

18.如权利要求17所述的系统，其中所述一个或多个组织类型包括组织层类型、组织密度和组织厚度。

19.如权利要求15所述的系统，其中用于处理第一组织部分的第一组织处理不同于用于处理第二组织部分的第二组织处理。

20.如权利要求19所述的系统，其中所述第一组织处理和所述第二组织处理之间的不同包括能量水平、递送持续时间和递送过程中的组织温度中的一项或多项的不同。

21.如权利要求1所述的系统，其中所述处理元件被构建并布置成可径向扩张和/或可径向延伸的。

22.如权利要求21的系统，其中所述处理元件被构建并布置成径向扩张和/或径向延伸到至少为1cm的直径。

23.如权利要求1所述的系统，其中所述处理元件包含可膨胀的球囊，该球囊包括温度65℃至90℃的流体。

24.如权利要求1所述的系统，进一步包含第二处理元件。