[发明专利]双重结构透明导电膜及其制造方法

权利要求书

1.一种双重结构透明导电膜，是一种作为太阳能电池的正面防反射膜或正面电极或背面反射膜使用的透明导电膜，其特征在于，包括：

透光层；

陷光层，一面接触上述透光层，另一面形成有表面绒面结构；

上述透光层的导电率A与上述陷光层的导电率a的关系为A>a，上述透光层的蚀刻性B与上述陷光层的蚀刻性b的关系为B<b。

2.根据权利要求1所述的双重结构透明导电膜，其特征在于，

上述陷光层中形成有表面绒面结构的面的表面粗糙度为50nm以上。

3.根据权利要求2所述的双重结构透明导电膜，其特征在于，

上述陷光层是在小于300℃的蒸镀温度蒸镀的ZnO系透明导电性薄膜。

4.根据权利要求3所述的双重结构透明导电膜，其特征在于，

上述透光层是在300℃以上的蒸镀温度蒸镀的ZnO系透明导电性薄膜。

5.根据权利要求3所述的双重结构透明导电膜，其特征在于，

上述透光层是ZnO系透明导电性薄膜以外的透明导电性薄膜。

6.一种双重结构透明导电膜的制造方法，制造作为太阳能电池的正面防反射膜或正面电极或背面反射膜使用的透明导电膜，包括下列步骤：

在基板形成透光层；

在上述透光层上形成陷光层；及

蚀刻上述陷光层的表面而形成表面绒面结构；

上述透光层的导电率A与上述陷光层的导电率a的关系为A>a，上述透光层的蚀刻性B与上述陷光层的蚀刻性b的关系为B<b。

7.根据权利要求6所述的双重结构透明导电膜的制造方法，其特征在于，

在形成上述陷光层的步骤中，把上述陷光层蒸镀成300nm以上的厚度。

8.根据权利要求6所述的双重结构透明导电膜的制造方法，其特征在于，

形成上述陷光层的步骤在小于300℃的蒸镀温度蒸镀ZnO系透明导电性薄膜而实现。

9.根据权利要求8所述的双重结构透明导电膜的制造方法，其特征在于，

形成上述透光层的步骤在300℃以上的蒸镀温度蒸镀ZnO系透明导电性薄膜而实现。

10.根据权利要求9所述的双重结构透明导电膜的制造方法，其特征在于，

从形成上述透光层的步骤到形成上述陷光层的步骤以降低蒸镀温度的方法连续实现。

11.根据权利要求8所述的双重结构透明导电膜的制造方法，其特征在于，

形成上述透光层的步骤蒸镀ZnO系透明导电性薄膜以外的透明导电性薄膜而实现。

12.根据权利要求6到11中任一项所述的双重结构透明导电膜的制造方法，其特征在于，

形成上述表面绒面结构的步骤由湿式蚀刻实现。

13.根据权利要求12所述的双重结构透明导电膜的制造方法，其特征在于，

上述湿式蚀刻利用0.1～10%浓度的HCl或H₂C₂O₄之类的酸性溶液。

14.一种双重结构透明导电膜的制造方法，制造作为太阳能电池的正面防反射膜或正面电极或背面反射膜使用的透明导电膜，包括下列步骤：

在300℃以上的温度于基板蒸镀ZnO系透明导电性薄膜而形成透光层；及

在低于300℃的温度于上述透光层上蒸镀ZnO系透明导电性薄膜而形成陷光层；

形成上述透光层的步骤与形成上述陷光层的步骤由化学蒸镀方法实现而自己形成表面绒面结构。

15.根据权利要求14所述的双重结构透明导电膜的制造方法，其特征在于，

上述化学蒸镀方法是CVD法或Sol-Gel法。