[发明专利]半导体散热板用Mo烧结部件以及使用该Mo烧结部件的半导体装置在审

专利信息
申请号: 201280015801.4 申请日: 2012-03-19
公开(公告)号: CN103443314A 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 森冈勉;青山齐 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝高新材料公司
主分类号: C22C27/04 分类号: C22C27/04;C22C1/04;C22C9/00;H01L23/373
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘凤岭;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 散热 mo 烧结 部件 以及 使用 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体散热板用Mo烧结部件,其由含有10~50质量%铜的钼合金材料构成,其特征在于:所述钼合金材料的钼晶体的平均粒径为10~100μm,每500μm×500μm单位面积的Mo晶体的面积比的偏差在平均值的±10%以内。

2.根据权利要求1所述的半导体散热板用Mo烧结部件,其特征在于:半导体散热板用Mo烧结部件的表面粗糙度Ra在5μm以下。

3.根据权利要求1或2所述的半导体散热板用Mo烧结部件,其特征在于:所述钼合金材料以金属元素换算计含有0.1~3质量%的Ni、Co、Fe之中的至少一种以上。

4.根据权利要求1~3中的任一项所述的半导体散热板用Mo烧结部件,其特征在于:所述钼合金材料是具有90~98%的密度的烧结合金材料。

5.根据权利要求1~4中的任一项所述的半导体散热板用Mo烧结部件,其特征在于:所述铜填充于钼晶体彼此之间的间隙中。

6.根据权利要求1~5中的任一项所述的半导体散热板用Mo烧结部件,其特征在于:所述钼晶体的最大晶体粒径在平均粒径的2倍以下。

7.根据权利要求1~6中的任一项所述的半导体散热板用Mo烧结部件,其特征在于:在相邻的钼晶体彼此之间的距离中,最远离的距离为50μm以下。

8.根据权利要求1~7中的任一项所述的半导体散热板用Mo烧结部件,其特征在于:半导体散热板用Mo烧结部件呈厚度为0.05~1mm、且直径为5~70mm的圆板状。

9.根据权利要求1~8中的任一项所述的半导体散热板用Mo烧结部件,其特征在于:半导体散热板用Mo烧结部件的热膨胀率为7~14×10-6/℃。

10.根据权利要求1~9中的任一项所述的半导体散热板用Mo烧结部件,其特征在于:半导体散热板用Mo烧结部件的抗拉强度为0.44GPa以上。

11.根据权利要求1~10中的任一项所述的半导体散热板用Mo烧结部件,其特征在于:半导体散热板用Mo烧结部件的比电阻为5.3×10-6Ω·m以下。

12.一种半导体装置,其特征在于:使用了权利要求1~11中的任一项所述的半导体散热板用Mo烧结部件。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;东芝高新材料公司,未经株式会社东芝;东芝高新材料公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280015801.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top