[发明专利]防反射膜及其制造方法

权利要求书

1.一种防反射膜，是按照透明基材、第1层、折射率低于所述第1层的第2层的顺序层叠而形成的，其中，

所述第1层是使包含电离辐射固化型材料、季铵盐材料、流平材料和溶剂的涂膜进行固化而成且具有自所述透明基材侧依次层叠有中间层、硬涂层和再涂层的结构，

所述再涂层不含季铵盐材料，

所述硬涂层含季铵盐材料，并且在所述硬涂层中自所述中间层侧越接近所述再涂层侧，所述季铵盐材料的浓度越高。

2.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，

所述流平材料选自包含丙烯基的化合物、包含氟基的化合物以及具有硅氧烷键的化合物。

3.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其中，

所述季铵盐材料的分子量在2000至8000的范围内，所述流平材料的分子量在1,000至80000的范围内。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的防反射膜，其中，

所述第1层的膜厚至少在3μm至15μm的范围内。

5.根据权利要求1至4的任意一项所述的防反射膜，其中，

平行光线透过率在93%以上，

雾度在0.5%以下，

所述第2层的表面电阻值在1×10⁵Ω/cm²至1×10¹²Ω/cm²的范围内，且所述第2层的表面的纯水接触角在80°至140°的范围内。

6.一种防反射膜的制造方法，是按照透明基材、第1层、折射率低于第1层的第2层的顺序层叠而成的防反射膜的制造方法，具备如下工序：

在所述透明基材的至少一个主表面上涂布包含电离辐射固化型材料、季铵盐材料、流平材料和溶剂的涂液，形成第1涂膜的涂布工序；

对所述第1涂膜进行一次干燥的第1干燥工序；

对进行了一次干燥的所述第1涂膜进行二次干燥的第2干燥工序；以及

对进行了二次干燥的所述第1涂膜照射电离辐射，获取作为所述第1涂膜的固化物的所述第1层的工序。

7.根据权利要求6所述的防反射膜的制造方法，其中，

所述涂液在100质量份所述涂液中含25质量份至85质量份的所述溶剂，

所述溶剂在100质量份所述溶剂中含30质量份以上的用于溶解或溶胀所述基材的溶剂。

8.根据权利要求6或7所述的防反射膜的制造方法，其中，

所述一次干燥在15℃以上30℃以下的范围内进行，

所述二次干燥在40℃至150℃的范围内进行。

9.一种防反射膜，是按照透明基材、第1层、折射率低于第1层的第2层的顺序层叠而形成的，其中，

所述第1层是使包含电离辐射固化型材料、季铵盐材料、流平材料和溶剂的涂膜进行固化而成且具有自所述透明基材侧依次层叠有中间层、硬涂层和再涂层的结构，

所述再涂层不含金属氧化物微粒子，

所述硬涂层含所述金属氧化物微粒子，并且在所述硬涂层中，所述金属氧化物微粒子呈不均匀分布。

10.根据权利要求9所述的防反射膜，其中，

在所述硬涂层中，自所述中间层侧越接近所述再涂层侧，所述金属氧化物微粒子的、金属氧化物微粒子体积占硬涂层的单位体积的比例越高。

11.根据权利要求9或10所述的防反射膜，其中，所述金属氧化物微粒子具备导电性。

12.根据权利要求9所述的防反射膜，其中，所述流平材料选自包含丙烯基的化合物、包含氟基的化合物以及具有硅氧烷键的化合物。

13.根据权利要求9至12中的任一项所述的防反射膜，其中，

所述金属氧化物微粒子的粒径在2μm以下，所述流平材料的分子量在500至80000的范围内。

14.根据权利要求9至13中的任一项所述的防反射膜，其中，

所述第2层的膜厚在3μm至15μm的范围内。