[发明专利]具有聚焦偏转结构板的微分相位对比成像

权利要求书

1.一种被配置为用于X射线微分相位对比成像的相位光栅的偏转装置(28)，包括偏转结构(41)，所述偏转结构具有：

-多个第一区域(46)；以及

-多个第二区域(50)；

其中，提供所述第一区域以改变X射线辐射的相位和振幅；并且其中，所述第二区域是X射线透明的；

其中，周期性地布置所述第一区域和所述第二区域，使得在横截面中，所述偏转结构具备布置为使得以形成于作为凸起(56)提供的第一区域之间的槽状凹部(54)的形式来提供所述第二区域的剖面；其中，相邻的凸起形成部分包封在其间布置的相应凹部的相应侧表面(58)；

其中，每个凹部的所述侧表面在跨所述凹部的深度(62)上具有变化的距离(60)；并且

其中，所述偏转结构的每个周期适于充当微透镜结构(70)，所述微透镜结构对X射线辐射进行聚焦，使得在距所述微透镜结构的一定距离处获得强度最大值。

2.根据权利要求1所述的偏转装置，其中，在小于Talbot距离的1/16的距离处，首次再现强度分布。

3.根据权利要求1所述的偏转装置，其中，所述偏转结构的所述剖面被提供为抛物线相位剖面(72)。

4.根据权利要求1所述的偏转装置，其中，所述偏转结构的所述剖面具备离散化形状(90)。

5.根据权利要求1所述的偏转装置，其中，所述第一区域具备多个凸起形状；其中，不同凸起形状以重复的顺序进行布置。

6.根据前述权利要求之一所述的偏转装置，其中，所述偏转结构的所述剖面被提供为多个曲线剖面段(100)；其中，通过将曲线段回折π或π的整数倍，来生成所述曲线剖面段。

7.根据权利要求6所述的偏转装置，通过将曲线段回折2π或4π来生成所述曲线剖面段。

8.一种用于X射线微分相位对比成像的吸收装置(30)，包括吸收结构(162)，所述吸收结构适于与根据权利要求1所述的偏转装置的偏转结构(41)对准并且包括：

-多个第三区域(166)；以及

-多个第四区域(170)；

其中，所述第三区域是X射线不透明的；并且其中，所述第四区域是X射线透明的；

其中，所述第三区域和所述第四区域周期性地布置，使得在横截面中，所述吸收结构具备吸收剖面，其中，所述第三区域被提供为部分包封其间的作为所述第四区域的X射线透明填充物(174)的吸收凸起(172)；

其中，每个所述透明填充物具有比所述吸收凸起的宽度(180)更宽的截面(178)。

9.一种用于生成对象的相位对比图像的X射线系统的探测器器具(20)，包括：

-相位光栅(22)；

-分析器光栅(24)；以及

-具有传感器的探测器(26)，所述传感器适于记录X射线辐射的强度变化；

其中，所述相位光栅被提供为根据权利要求1到7之一所述的偏转装置(28)；

其中，所述分析器光栅被提供为根据权利要求8所述的吸收装置(30)；并且

其中，所述相位光栅或所述分析器光栅适于在相对于彼此横交的方向上步进。

10.一种用于生成对象的相位对比图像的X射线图像采集装置(12)，具有：

-X射线源(18)；

-相位光栅；

-分析器光栅；以及

-探测器(26)；

其中，所述X射线源生成X射线辐射；

其中，所述X射线图像采集装置适于提供具有充分的相干性的X射线束，从而能够在所述分析器光栅的位置处观察到干涉；并且

其中，所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供为根据权利要求9所述的探测器器具(20)。

11.根据权利要求10所述的X射线图像采集装置，包括：

-源光栅(32)；

其中，所述源光栅适于分裂所述X射线源的所述X射线辐射，生成至少部分相干的X射线辐射；

其中，所述源光栅具备源光栅间距；并且

其中，所述源光栅间距与由所述分析器光栅提供的分析器光栅间距之比等于所述源光栅和所述相位光栅之间的距离与所述相位光栅和所述分析器光栅之间的距离之比。